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J-GLOBAL ID:201802222872080604   整理番号:18A0258702

製造許容性プラズモン導波路の最適設計【Powered by NICT】

Optimal design of plasmonic waveguide with fabrication tolerance
著者 (1件):
資料名:
巻: 395  ページ: 139-146  発行年: 2017年 
JST資料番号: A0678B  ISSN: 0030-4018  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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プラズモン導波路のための最適化アプローチは,作製許容度を考慮して提案した。遺伝的アルゴリズムを用いて,ナノスケールのプラズモン導波路の形状を最適化することである,が高くなりモード閉じ込めと長い伝搬長さの製作誤差に敏感でないようにした。設計変数と目的関数は導波路形状パラメータとパラメータ空間における局所近傍上の指数の平均指数として定義した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学 
タイトルに関連する用語 (3件):
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