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J-GLOBAL ID：201802222971429952   整理番号：18A0850895

シリコンnanopillのリチオ化の拡散分子動力学シミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Diffusive molecular dynamics simulations of lithiation of silicon nanopillars

著者 (3件)： Mendez J.P. (Division of Engineering and Applied Science, California Institute of Technology, Pasadena, CA 91125, USA) ,  Ponga M. (Department of Mechanical Engineering, The University of British Columbia, Vancouver, BC Canada, V6T 1Z1, Canada) ,  Ortiz M. (Division of Engineering and Applied Science, California Institute of Technology, Pasadena, CA 91125, USA)
資料名： Journal of the Mechanics and Physics of Solids  (Journal of the Mechanics and Physics of Solids)
巻： 115  ページ： 123-141  発行年： 2018年 
JST資料番号： C0320A  ISSN： 0022-5096  CODEN： JMPSA8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siナノピラーのリチオ化に関する拡散分子動力学シミュレーション,すなわち,剛性支持体により両端に保持されたナノサイズSiロッドを報告した。リチオ化過程の持続時間はミリ秒のオーダーで,分子動力学の範囲外ではあるが,拡散性分子動力学に容易にアクセスできる。シミュレーションは,完全リチオ化相における合金Li_15Si_4を予測し,SiSi反復の弱化により,界面速度論,高ミスフィット歪および残留応力により支配される結晶-非晶質-リチオ化相転移が,他の影響の中で広範囲の気孔の形で表面亀裂と厳しい構造劣化をもたらす。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 剛性 ,  表面亀裂 ,  相転移 ,  気孔 ,  *分子動力学 ,  *計算機シミュレーション ,  合金 ,  *ケイ素 ,  *リチオ化 ,  非晶質 ,  継続時間 ,  ミスフィット ,  結晶 ,  残留応力
準シソーラス用語： ナノピラー ,  *分子動力学シミュレーション , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： Liベース電池 ,  Li拡散 ,  リチオ化 ,  非平衡統計力学 ,  長期拡散シミュレーション ,  拡散分子動力学

分類 (2件)： 金属の格子欠陥  (BK12030F) ,  破壊力学一般  (HC04010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコン ,  リチオ化 ,  拡散 ,  分子動力学シミュレーション