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J-GLOBAL ID：201802223011183881   整理番号：18A2070812

ヒドロキシル枯渇ヒドロキシアパタイト中のヒドロキシルイオン濃度を増加させるための水熱処理【JST・京大機械翻訳】

Hydrothermal Processing for Increasing the Hydroxyl Ion Concentration in Hydroxyl Depleted Hydroxyapatite

著者 (4件)： Ubele Darta (Riga Technical University, Institutute of Inorganic Chemistry; P. Valdena 3/7, Riga, LV-1048, Latvia) ,  Pluduma Liene (Riga Technical University, Institutute of Inorganic Chemistry; P. Valdena 3/7, Riga, LV-1048, Latvia) ,  Gross Karlis Agris (Riga Technical University, Institutute of Inorganic Chemistry; P. Valdena 3/7, Riga, LV-1048, Latvia) ,  Viksna Arturs (University of Latvia, Faculty of Chemistry; Jelgavas 1, Riga, LV-1004, Latvia)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 762  ページ： 42-47  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱溶射はヒドロキシアパタイト被覆を製造するために商業的に使用されているが,高温は構造中のヒドロキシルイオンを枯渇させる。ヒドロキシアパタイトをその元の状態に戻すために,構造中のヒドロキシルイオン含有量を回復することが必要である。本研究では,ヒドロキシルイオンに及ぼす水熱処理の影響を,ヒドロキシアパタイト粉末および熱溶射ヒドロキシアパタイト被覆において調べた。試料を200°Cで24時間および48時間水熱処理した。化学相をX線回折,官能基およびヒドロキシルイオン濃度によって決定し,Fourier変換赤外分光法によって調べた。結果は,48時間,200°Cでのヒドロキシアパタイトコーティングの熱水処理が,29%までのヒドロキシルイオン濃度の最大の増加をもたらしたことを示した。Copyright 2018 Trans Tech Publications Ltd. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  被覆 ,  *水酸化物イオン ,  粉体 ,  溶射 ,  高温 ,  *ヒドロキシアパタイト ,  FTIR分光法 ,  デコンボリューション
準シソーラス用語： 熱水処理 ,  官能基 ,  ヒドロキシアパタイト被覆 ,  *水熱処理 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： デコンボリューション ,  ヒドロキシルイオン ,  水熱処理 ,  Fourier変換赤外分光法 ,  ヒドロキシアパタイト

分類 (2件)： 医用素材  (GA05040H) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 枯渇 ,  ヒドロキシアパタイト ,  ヒドロキシルイオン ,  水熱処理