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J-GLOBAL ID:201802223039668529   整理番号:18A0110315

超伝導細線の位相すべりとデバイス応用

著者 (4件):
資料名:
巻: 95th  ページ: 122  発行年: 2017年11月21日 
JST資料番号: G0564B  ISSN: 0919-5998  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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一次元伝導体と近似できるほど微細加工化された超伝導細線はジョセフソン接合と双対な関係にある。ジョセフソン接合におけるクーパ対のトンネリングは双対な超伝導細線では位相すべりとして観測される。近年,この位相すべりを利用した超伝導細線のデバイス応用の研究がなされている。講演では我々が研究を行っている超伝導細線の現状を示す予定である。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (2件):
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金属系超伝導体の物性  ,  Josephson接合・素子 
タイトルに関連する用語 (5件):
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