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J-GLOBAL ID：201802223694558284   整理番号：18A2005382

B20構造を持つ(Fe_1-xNi_x)Siの弱い強磁性【JST・京大機械翻訳】

Weak ferromagnetism of (Fe_1-xNi_x)Si with B20 structure

著者 (3件)： Tsutaoka Takanori (Graduate School of Education, Hiroshima University, 1-1-1, Kagamiyama, Higashi-Hiroshima, Hiroshima 739-8524, Japan) ,  Kaneshige Kenshiro (Graduate School of Education, Hiroshima University, 1-1-1, Kagamiyama, Higashi-Hiroshima, Hiroshima 739-8524, Japan) ,  Ueda Koyo (Graduate School of Education, Hiroshima University, 1-1-1, Kagamiyama, Higashi-Hiroshima, Hiroshima 739-8524, Japan)
資料名： AIP Advances (Web)  (AIP Advances (Web))
巻： 8  号： 10  ページ： 101406-101406-4  発行年： 2018年 
JST資料番号： U7121A  ISSN： 2158-3226  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Niドープ(Fe_1-xNi_x)Si(x=0~0.5)の磁気的および電気的性質を,磁化率および電気抵抗率を測定することによって研究した。FeSi化合物(x=0)は2.0Kで弱い強磁性を示し,50kOeで約0.07μ_B/f.u.の小さい磁化を示した。高温磁化率は常磁性を示唆した。NiによるFeの置換により,低温の弱い強磁性状態が抑制される。磁化はxが0.5まで増加すると連続的に減少した。磁化率は低温でCurie型温度変化を示した。常磁性磁化率は全ての試料に対してCurie-Weiss則に従わなかった。(Fe_1-xNi_x)Siの電気抵抗率はx=0で半導体的性質を示した。低温抵抗率はxの増加と共に実質的に抑制された。半金属および金属特性はそれぞれx=0.2および0.4で現れた。Copyright 2018 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ニッケル ,  磁化 ,  電気抵抗率 ,  Curie-Weiss則 ,  半金属 ,  磁気 ,  低温 ,  磁化率 ,  ドーピング ,  半導体 ,  高温 ,  常磁性 ,  *鉄 ,  金属性 ,  *弱い強磁性

分類 (2件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (2件)： Si ,  弱い強磁性