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J-GLOBAL ID:201802224758510274   整理番号:18A0714159

硫酸分解のためのPt/中空球状SiCから生成した中空球状SiO_2の内部壁におけるPtの安定化【JST・京大機械翻訳】

Stabilization of Pt at the inner wall of hollow spherical SiO2 generated from Pt/hollow spherical SiC for sulfuric acid decomposition
著者 (6件):
資料名:
巻: 231  ページ: 151-160  発行年: 2018年 
JST資料番号: W0375A  ISSN: 0926-3373  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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硫酸(SA)分解のための触媒は,水素を生産するためのスルフル-ヨウ素(SI)サイクルにおける3つの反応のうちの1つであり,800~900°Cまで活性で安定であるべきである。ここでは,SiC中空球担持Pt触媒(1wt%Pt/HSIC)を調製し,その触媒活性と安定性を850°CでのSA分解でモニターした。Pt/HSIC触媒による初期SA転化率は850°Cで約80%,GHSVは76000mL/g_猫hであった。比較のために,コア-シェルSiO_2担持Pt触媒(1wt%Pt/SiO_2@mSiO_2)を調製し,反応を試験した。コア-シェルSiO_2担体は緻密なコアとメソ多孔性シェルの構造を有していた。Pt/SiO_2@mSiO_2触媒による初期SA転化率は850°Cで約54%,GHSVは76000mL/g_猫hであった。Pt/HSIC触媒は6時間以内にSiO_2中空球担持Pt触媒(Pt/HSiO_2)に変換された。CO化学吸着とTEM分析は,850°Cで前処理した元と使用済み触媒上のPt粒子がSiCとSiO_2担体の表面上にSiCまたはSiO_2によってカプセル化されることを示した。カプセル化されたPt粒子が硫酸蒸気と接触しているとき,Pt粒子は反応の間にPtをカプセル化するSiO_2の除去によって反応物に暴露される。元のHSICの外壁におけるPt粒子はPtOx蒸発によって部分的に失われるが,中空球支持体の内壁におけるPt粒子は厳しいPt損失とPt焼結なしに安定化される。対照的に,高密度SiO_2コアを有するSiO_2@mSiO_2上のPt粒子は,反応中のPtOx蒸発により激しく失われ,激しいPt焼結をもたらした。中空支持体の内壁におけるPt粒子の高い安定性は,内壁における小さなPt粒子のPtカプセル化とPt固定および内壁への内壁におけるPtの移動に対するシェルの拡散障壁役割に起因する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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貴金属触媒 

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