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J-GLOBAL ID：201802224806579814   整理番号：18A1129501

Pt(111)上の2つのキラル修飾剤の最も安定な吸着幾何学【JST・京大機械翻訳】

The most stable adsorption geometries of two chiral modifiers on Pt(111)

著者 (7件)： Zeng Yang (CCVC et Departement de Chimie, Universite Laval, Quebec, QC G1V 0A6, Canada) ,  Masini Federico (CCVC et Departement de Chimie, Universite Laval, Quebec, QC G1V 0A6, Canada) ,  Rasmussen Anton M.H. (iNano and Department of Physics and Astronomy, Aarhus University, 8000 Aarhus C, Denmark) ,  Groves Michael N. (Department of Chemistry and Biochemistry, California State University, Fullerton, Fullerton, CA 92834, USA) ,  Albert Vincent (CCVC et Departement de Chimie, Universite Laval, Quebec, QC G1V 0A6, Canada) ,  Boukouvalas John (CCVC et Departement de Chimie, Universite Laval, Quebec, QC G1V 0A6, Canada) ,  McBreen Peter H. (CCVC et Departement de Chimie, Universite Laval, Quebec, QC G1V 0A6, Canada)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 676  ページ： 17-22  発行年： 2018年 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： キラルに修飾された金属表面上のキラリティ移動の分子記述は,系の複雑さと特異的なエナンチオ選択的経路に有利な弱いエネルギー的バイアスのために不明確である。増強されたレベルの分子理解を動かすために,エナンチオ分化の原因となる修飾剤の化学吸着幾何学を定義することが重要である。単結晶上のキラル分子のモデル表面科学研究は,触媒キラリティー移動分子機構をプローブする間接的方法を提供する。超高真空(UHV)と反応条件の間の大きな差とは別に,そのような研究が反応条件下で得られたデータの解釈を知らせることができる程度は,モデル系が正しく定義される程度に依存する。同じことは,UHV表面分光データと,in situまたはオペランド条件下での触媒-溶液界面で行った分光測定との比較にも当てはまる。Pt(111)上の(R)-1-(1-ナフチル)エチルアミン,(R)-NEA及びその単純誘導体(R)-1-(8-メチル-1-ナフチル)エチルアミンに関する詳細な反射吸収赤外分光法(RAIRS)データを提示した。NEAの構造とPt触媒粒子および拡張Pt表面上の類似の修飾剤に対する種々の相反する提案が文献中に見出されている。ここでは,Pt(111)上の高いサブ単分子層被覆率以下で,(R)-NEAは,全ナフチル基が表面にπ結合し,アミン基が表面への結合を形成する化学吸着幾何学を採用することを見出した。メチル置換誘導体に対して,同じ一般的な吸着構造が見出された。本研究は,これらのキラル修飾剤に対する参照スペクトルを提供し,(R)-NEA/Pt(111)系により形成されたジアステレオマ錯体の以前の研究で記述された分子構造を確認した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 錯体 ,  ジアステレオマ ,  化学吸着 ,  分子構造 ,  *白金 ,  スペクトル ,  プローブ ,  超高真空 ,  *吸着 ,  白金触媒 ,  単結晶 ,  アミン
準シソーラス用語： *化学修飾剤 ,  *キラリティ ,  *キラル修飾 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 不均一不斉触媒作用 ,  RAIRS ,  カイラル表面 ,  エナンチオ選択水素化 ,  カイラル修正表面

分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (4件)： Pt ,  キラル修飾 ,  吸着 ,  幾何学