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J-GLOBAL ID：201802225311531176   整理番号：18A0910968

金属触媒を使用せず石英基板上の加熱タングステンを用いたペンタセンからのナノカーボン膜形成のボトムアップ手法に関するガイドライン

Guidelines for bottom-up approach of nanocarbon film formation from pentacene using heated tungsten on quartz substrate without metal catalyst

著者 (2件)： HEYA Akira (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  MATSUO Naoto (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 4S  ページ： 04FL03.1-04FL03.5  発行年： 2018年04月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 金属触媒 ,  基板 ,  *タングステン ,  *クラスタ分子 ,  *ナノ構造 ,  *薄膜 ,  *構成 ,  *薄膜成長 ,  *意思決定 ,  *指針 ,  グラフェン ,  二量体 ,  *ナノカーボン ,  ナノグラフェン ,  石英基板 ,  *薄膜形成 ,  ポリアセン
準シソーラス用語： *ガイドライン ,  *ボトムアップ

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： ペンタセン

タイトルに関連する用語 (9件)： 金属触媒 ,  石英基板 ,  タングステン ,  ペンタセン ,  ナノカーボン ,  膜形成 ,  ボトムアップ ,  手法 ,  ガイドライン