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J-GLOBAL ID:201802226428323241   整理番号:18A1486156

暗黒シリコンを意識した設計空間探索【JST・京大機械翻訳】

Dark-Silicon Aware Design Space Exploration
著者 (9件):
資料名:
巻: 120  ページ: 295-306  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0613B  ISSN: 0743-7315  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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複数のコアから成るプロセッサプラットフォームの設計は,近年,劇的な変化を受けている。主に,トランジスタ製造プロセスにおける収縮寸法から生じる漏れ電流の増加によって課される物理的制約に起因する。このような制約は,「暗いシリコン」として知られているものをもたらし,チップの面積は,電力消費制約を満たすために,最小クロック周波数でオフまたは動作する必要がある。技術的挑戦は,すべてのチップ設計制約と目標を満たすためにハードウェアブロック(タイプと数)を選択する方法であった。本研究では,チップ成分パワー密度と技術プロセスに基づくより保守的でない暗シリコン推定と,暗いシリコン制約を意識した設計空間探索を実行する技術を紹介した。著者らの設計空間探査技術を多目的最適化モデルの上に築き上げて,それは暗いシリコンを認識する解法(プラットフォーム)を提供するためにNSGA-II遺伝的アルゴリズムを採用した。この技術を検証し,bru力アルゴリズムと共に評価した。著者らの実験結果は,チップ上の3つのコア領域に取り付けられる134mm2のチップ面積をもたらす,13.61%までの暗いシリコンチップの割合を示した。著者らのDS-DSE性能をbruTe力アルゴリズムと比較する実験は,著者らの戦略が設計空間探査(IPコアデータベース)が増加するにつれて,より多くの性能スケーラビリティを提示することを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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半導体集積回路 
タイトルに関連する用語 (3件):
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