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J-GLOBAL ID：201802227588064915   整理番号：18A1749478

低多孔性陽極酸化アルミニウム膜の調製とその高絶縁特性【JST・京大機械翻訳】

Preparation of anodic alumina films with low porosity and high insulation property

著者 (6件)： Peng Rong (湖南大学 材料科学与工程学院,長沙,410082) ,  Yang Wulin (湖南大学 材料科学与工程学院,長沙 410082;湖南大学 湖南省噴射沈積技術重点実験室,長沙 410082) ,  Fu Licai (湖南大学 材料科学与工程学院,長沙,410082) ,  Zhu Jiajun (湖南大学 材料科学与工程学院,長沙,410082) ,  Li Deyi (湖南大学 材料科学与工程学院,長沙,410082) ,  Zhou Lingping (湖南大学 材料科学与工程学院,長沙 410082;湖南大学 湖南省噴射沈積技術重点実験室,長沙 410082)
資料名： Zhongguo Youse Jinshu Xuebao  (Zhongguo Youse Jinshu Xuebao)
巻： 28  号： 5  ページ： 964-970  発行年： 2018年 
JST資料番号： W0943A  ISSN： 1004-0609  CODEN： ZYJXFK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 低多孔性の高絶縁特性をもつ陽極酸化アルミニウム膜(AAO膜)を,定電流陽極酸化によって調製し,そして,AAO膜の微細構造および絶縁特性に及ぼすエチレングリコール(EG)の影響を,研究した。X線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM)および絶縁性能試験機を用いて,AAO膜の相組成,微細構造,および絶縁特性を測定した。その結果,EGの体積分率が40%のとき,AAO膜の空隙率は1.0%であり,AAO膜の絶縁抵抗は5.4×1013Ωに達した。EGの体積分率が50%のとき,AAO膜の破壊電界強度は44.8V/μmに達した。シュウ酸電解液中の有機物EGの添加はAAO膜の多孔層の空隙率を大幅に低下させ、バリア層の厚さを高め、AAO膜の絶縁性能を大幅に向上させた。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 体積率 ,  空隙率 ,  *多孔質体 ,  電流 ,  *多孔性 ,  絶縁抵抗 ,  走査電子顕微鏡 ,  X線回折 ,  有機物 ,  相組成 ,  電解液 ,  微細構造 ,  *アノード酸化 ,  電界強度 ,  脂肪族カルボン酸 ,  ジカルボン酸
準シソーラス用語： バリア層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： anodic alumina ,  organics ,  low porosity ,  insulation property

分類 (2件)： 金属工学一般  (WA01010O) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

物質索引 (1件)： シュウ酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 多孔性 ,  陽極酸化 ,  アルミニウム膜 ,  調製 ,  絶縁特性