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J-GLOBAL ID:201802227612784117   整理番号:18A0796749

溶融塩フラックスによるNbドープTiO_2光触媒における欠陥の最小化【JST・京大機械翻訳】

Minimization of defects in Nb-doped TiO2 photocatalysts by molten salt flux
著者 (5件):
資料名:
巻: 44  号:ページ: 10249-10257  発行年: 2018年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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遷移金属ドーピングは,TiO_2の光触媒性能を改善するための一般的な経路である。しかし,ほとんどのドーパントは,欠陥が必然的に導入される(例えば,酸素またはTi3+欠陥)ような異原子価(例えば,Nb5+,W6+,およびFe3+)である。欠陥を最小化し,従って光生成電荷のより良い分離を保証するために,本研究は溶融塩のフラックス中でTiO_2にNbドーパントを組み込んだ。溶融塩フラックスは,TiO_2ナノ粒子のナノワイヤへの再結晶化を誘起するだけでなく,Ti3+または酸素欠陥の形成を抑制するために,TiO_2格子中の+4価電子ドーパントも可能にした。この欠陥の最小化は,気体アセトアルデヒドの分解における光触媒活性を強化する。この増強は,主に,TiO_2のより高い結晶性と,等価なNbドーピングによって誘起された電荷キャリアのより良い分離に起因する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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セラミック・陶磁器の製造 
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