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J-GLOBAL ID：201802227638545836   整理番号：18A2043336

Pb/Si(111)表面へのナトリウム吸着の研究【JST・京大機械翻訳】

Study of Sodium Adsorption on Pb/Si(111) Surfaces

著者 (4件)： Ryzhkova Maria Valeryevna (Institute of Automation and Control Processes FEB RAS; Vladivostok, Russian Federation) ,  Tsukanov Dmitry Anatolyevich (Institute of Automation and Control Processes FEB RAS; Vladivostok, Russian Federation) ,  Borisenko Elena Anatolyevna (Institute of Automation and Control Processes FEB RAS; Vladivostok, Russian Federation) ,  Ivanchenko Maxim Viktorovich (Institute of Automation and Control Processes FEB RAS; Vladivostok, Russian Federation)
資料名： Defect and Diffusion Forum  (Defect and Diffusion Forum)
巻： 386  ページ： 55-60  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0958B  ISSN： 1012-0386  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Pb終端Si(111)表面へのナトリウム吸着により形成された新しい再構成が得られた:2X2+2sqrt3x2sqrt3,4X1,3x3。これらの表面構造を低エネルギー電子回折(LEED)により観察し,二次元二元(Na,Pb)/Si(111)系に対する相図を得た。(Na,Pb)/Si(111)系は高度に秩序化した構造を持つ二次元合金層と考えられる。Si(111)基板の表面伝導率に及ぼす二次元合金の影響を四点プローブ法によりその場研究した。Copyright 2018 Trans Tech Publications Ltd. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *吸着 ,  *鉛 ,  表面再構成 ,  *ナトリウム ,  状態図 ,  二次元 ,  表面構造 ,  低速電子回折 ,  合金 ,  再構成 ,  プローブ ,  合金層
準シソーラス用語： 表面伝導率 ,  *シリコン(111) , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 表面再構成 ,  吸着 ,  鉛 ,  ナトリウム ,  低エネルギー電子回折 ,  表面伝導率 ,  Si(111)表面

分類 (4件)： 非晶質金属の構造  (BK04020D) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  固体中の拡散一般  (BL06021L) ,  金属,合金の化学熱力学(純物質)  (CB02022X)

タイトルに関連する用語 (5件)： Pb ,  Si ,  ナトリウム ,  吸着 ,  研究