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J-GLOBAL ID:201802227678877028   整理番号:18A2114153

抵抗加熱法により作製したZnS薄膜の合成とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

SYNTHESIS AND CHARACTERIZATION OF ZnS THIN FILMS PREPARED BY RESISTIVE HEATING TECHNIQUE
著者 (12件):
資料名:
巻: 25  号:ページ: 1850080  発行年: 2018年 
JST資料番号: W1109A  ISSN: 0218-625X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: シンガポール (SGP)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,BK-7ガラス基板上に抵抗加熱法により堆積した亜鉛硫化物(ZnS)薄膜を作製した。ZnS膜の光学的及び構造的特性化を種々の温度での堆積後アニーリングと共に行った。膜の厚さを水晶結晶モニタによりモニターし,500[数式:原文を参照]nmであることを見出した。Fourier変換赤外(FTIR)分光法は,異なる温度でのアニーリング前後のZnS膜の定性分析を提供する。光学的研究は,堆積したままとアニールしたZnS膜が可視/近赤外領域で高い光透過率(64~68%)を示すことを示した。堆積したままとアニールしたZnS膜の光学エネルギーギャップは,アニーリング温度の変化により,3.32~3.18[数式:原文を参照]eVの範囲で変化した。Copyright 2018 World Scientific Publishing Company All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 
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