プラズマ増強化学蒸着プロセスによる柔軟な多層障壁膜のためのSiN_xとプラズマ高分子層の室温堆積【JST・京大機械翻訳】

Yong Sang Heon; Ahn Hyung June; Kim Sun Jung; Park Jang Soon; Kwon Sungyool; Cho Sung Min; Jung Donggeun; Chae Heeyeop; Chae Heeyeop

文献

J-GLOBAL ID：201802227931335374 整理番号：18A2116447

プラズマ増強化学蒸着プロセスによる柔軟な多層障壁膜のためのSiN_xとプラズマ高分子層の室温堆積【JST・京大機械翻訳】

Room Temperature Deposition of SiN_x and Plasma Polymer Layers for Flexible Multilayer Barrier Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

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資料名：
巻： 13 号： 7 ページ： 1850082 発行年： 2018年
JST資料番号： W2379A ISSN： 1793-2920 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：シンガポール (SGP) 言語：英語 (EN)

本研究では,シリコン窒化物(SiN_x)膜を,トリシルアミン(TSA,N(SiH [数式:原文を参照])前駆体およびアンモニアを含む誘導結合プラズマ(ICP)反応器中のポリエチレンナフタレート(PEN)膜上に30°Cに近い室温でプラスチック基板上に蒸着した。SiN_x層が厚くなると,水分障壁特性は改善されたが,300[数式:原文を参照]以上の厚い膜では,亀裂が見られた。そして,より厚い層の障壁性能は,著しく劣化した。柔軟性と障壁特性の両方を改善するために,プラズマ高分子(PP)層を室温で蒸着し,SiN_x層間に導入した。単一SiN_x膜,[数式:原文を参照][数式:原文を参照]g/(m[数式:原文を参照])の水蒸気透過速度(WVTR)を,SiN_x/PP/SiN_x/PP/SiN_x交互5層構造を有する[数式:原文を参照][数式:原文を参照]g/(m [数式:原文を参照])に還元した。1.5[数式:原文を参照] cmの曲げ半径における1000回の曲げ後,WVTRは5層構造で41%増加し,一方,単層構造のそれは69%増加した。この研究は,SiN_xとPP層が,柔軟な湿気バリア膜のために室温で堆積できることを示した。30°Cに近い室温でプラズマ増強化学蒸着プロセスにより,柔軟なSiN_x/プラズマ高分子多層水分障壁を蒸着した。トリシルアミンとNH_3を用いて,誘導結合プラズマ反応器中でSiN_xを形成した。[数式:原文を参照][数式:原文を参照]g/(m[数式:原文を参照])の水蒸気透過速度は5層構造で達成され,これは単一SiN_xより79%低い。WVTRにおけるより少ない変化は,5層構造を有する1.5[数式:原文を参照] cm半径における1000の曲げの後に観察された。Copyright 2018 World Scientific Publishing Company All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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塩基,金属酸化物 , 光化学反応 , 炭素とその化合物

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