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J-GLOBAL ID：201802228300373294   整理番号：18A0133780

新しい方法で正規化複合材料のComptonプロフィル【Powered by NICT】

Compton profiles of some composite materials normalized by a new method

著者 (2件)： Sankarshan B.M. (DoS in Physics, University of Mysore, Manasagangotri, Mysuru 570006, India) ,  Umesh T.K. (DoS in Physics, University of Mysore, Manasagangotri, Mysuru 570006, India)
資料名： Radiation Physics and Chemistry  (Radiation Physics and Chemistry)
巻： 144  ページ： 106-110  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0627A  ISSN： 0969-806X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近著者らは,新しいアプローチとして,純粋なインコヒーレント散乱体として扱うことができる試料の場合には,実効原子番号Zeff自身がその非正規Comptonプロフィルを正規化するために便利に使用できることを示した。本研究では,この方法の有効性を検討することを試みた。この目的のために,筆者らは最初に純インコヒーレント散乱体である元素CとAlのベークライト,エポキシ,ナイロン,テフロンのようないくつかのH,C,NとOをベースにした高分子試料の単一微分Compton散乱断面積(SDCS)を決定した。測定は高分解能高純度ゲルマニウム検出器を採用したゴニオメータ集合における120°で行った。SDCS値はZeffと非正規Comptonプロフィルを得るために用いた。これらのComptonプロファイルは,それらのZeff値(Compton散乱に対する)と同様に混合則に基づくHartree-Fock BiggsらComptonプロフィルを統合することにより得られた規格化定数で正規化した。これら二つの値のは実験誤差の範囲内でよく一致し,Zeffは純粋な非干渉性散乱体の実験的Comptonプロフィルを正規化するために便利に使用できることを示唆した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 混合則 ,  *複合材料 ,  Compton散乱 ,  断面積 ,  アルミニウム ,  高純度Ge検出器 ,  フェノール樹脂 ,  ナイロン ,  非干渉性散乱 ,  高分解能 ,  高分子 ,  標準化 ,  *正規化 ,  ゴニオメータ
準シソーラス用語： 実効原子番号 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： Comptonプロフィル ,  正規化 ,  実効原子番号(Zeff)

分類 (2件)： 光子による反応・散乱  (BG04020R) ,  X線との相互作用  (BK16030H)

タイトルに関連する用語 (3件)： 正規化 ,  複合材料 ,  プロフィル