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J-GLOBAL ID：201802229153479146   整理番号：18A0754207

フォトニック応用のためのキラルフォトニックセルロース膜の円偏光ポテンシャルの解明【JST・京大機械翻訳】

Uncovering the Circular Polarization Potential of Chiral Photonic Cellulose Films for Photonic Applications

著者 (7件)： Zheng Hongzhi (State Key Laboratory of Inorganic Synthesis and Preparative Chemistry, Jilin University, 2699 Qianjin Street, Changchun, 130012, P. R. China) ,  Li Wanru (State Key Laboratory of Inorganic Synthesis and Preparative Chemistry, Jilin University, 2699 Qianjin Street, Changchun, 130012, P. R. China) ,  Li Wen (State Key Laboratory of Supramolecular Structure and Materials, Jilin University, 2699 Qianjin Street, Changchun, 130012, P. R. China) ,  Wang Xiaojun (State Key Laboratory of Supramolecular Structure and Materials, Jilin University, 2699 Qianjin Street, Changchun, 130012, P. R. China) ,  Tang Zhiyong (Laboratory of Nanomaterials, National Center for Nanoscience and Technology, Beijing, 100190, P. R. China) ,  Zhang Sean Xiao-An (State Key Laboratory of Supramolecular Structure and Materials, Jilin University, 2699 Qianjin Street, Changchun, 130012, P. R. China) ,  Xu Yan (State Key Laboratory of Inorganic Synthesis and Preparative Chemistry, Jilin University, 2699 Qianjin Street, Changchun, 130012, P. R. China)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 30  号： 13  ページ： e1705948  発行年： 2018年 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 円偏光(CPL)はフォトニック技術の中心である。重要な挑戦は,スケールアップに適した低コストの原材料を用いて,調整されたキロプチカル活性を有するCPLの生成のための一般的なルートを開発することにある。本研究では,フォトニックバンドギャップ(PBG)と左巻き螺旋センスを持つセルロース膜が,PBG変化により,異常な|g|値,良いデフィエンド性,および調整可能波長を持つPBGベースCPLをもたらす円偏光の固有の能力を持つことを示した。このようなセルロース膜を用いると,近紫外から近赤外への入射光の範囲は,観測側に依存するハンデネスと|g|値が0.87までの受動的なL-CPLとr-CPLに変換でき,自然放出は0.68までの|g|値でr-CPL発光に変換した。PBG効果がr-CPL発光を刺激することができるという理論的根拠により,前例のない証拠を示した。偏光に基づく暗号化のためのセルロース系CPL膜の可能性を示した。セルロースナノ結晶のナノスケールメソゲンと結合した蒸発誘起自己集合は,技術進歩のための新しい道を開き,フォトニック応用のための有機および無機CPL膜の合理的な設計とスケーラブルな製造のための汎用戦略を可能にする。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： フォトニックバンドギャップ ,  近赤外線 ,  波長 ,  蒸発 ,  *偏光 ,  自己集合 ,  暗号 ,  発光 ,  近紫外線 ,  自然放出 ,  *セルロース ,  *円偏光
準シソーラス用語： *キラリティ ,  セルロースナノ結晶 ,  *セルロース膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： セルロースナノ結晶 ,  キラルネマチック液晶 ,  円偏光 ,  フォトニック応用

分類 (2件)： その他の液晶  (BK03030H) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (3件)： 応用 ,  円偏光 ,  ポテンシャル