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J-GLOBAL ID：201802229185143715   整理番号：18A0705543

多結晶ホスホレンにおける異常線形弾性【JST・京大機械翻訳】

Abnormal linear elasticity in polycrystalline phosphorene

著者 (3件)： Liu Ning (College of Engineering, University of Georgia, Athens, GA 30602, USA. [e-mail]) ,  Pidaparti Ramana ,  Wang Xianqiao
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 20  号： 13  ページ： 8668-8675  発行年： 2018年 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単分子層ブラックリンとして知られているホスホレンは,その優れた電気的性質のために電子デバイスに広く使われてきた。しかし,その比較的低いYoung率,低い破壊強度および構造破壊に対する感受性は,ナノデバイスにおけるその応用を制限している。したがって,ホスホレンを利用するより機械的に信頼できるデバイスを設計するためには,多結晶ホスホレンの機械的性質を調べる必要がある。ここでは,多結晶ホスホレンシートの機械的性能に及ぼす粒径の影響を研究するために,分子動力学シミュレーションを行った。平面結晶構造を有する他の二次元材料とは異なり,多結晶ホスホレンシートは,その固有の座屈結晶構造による高い曲げ剛性のために,ほとんど線形弾性である。さらに,結晶粒サイズの2から12nmへの増加に伴う多結晶ホスホレンに対する剛性のパーセント増加は,平面結晶構造を有する他の二次元材料に対するそれより非常に小さい15.9%にすぎない。この非感受性は結晶相の弾性係数と多結晶ホスホレンの非晶質相の間の小さな差に起因すると考えられる。さらに,強度低下は結晶粒サイズの対数関係に従い,多結晶グラフェンのそれに類似した転位パイルアップ理論によって良く説明された。全体として,著者らの知見は,多結晶ホスホレンの機械的性質のより良い理解を提供し,新しいホスホレンベースのナノデバイスとナノ構造を製造し設計するためのガイドラインを確立する。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 計算機シミュレーション ,  グラフェン ,  結晶粒径 ,  単分子層 ,  結晶構造 ,  Young率 ,  曲げ剛性 ,  電気的性質 ,  感受性 ,  *多結晶 ,  破壊強さ
準シソーラス用語： 結晶相 ,  分子動力学シミュレーション ,  ナノデバイス ,  電子素子 ,  *フォスフォレン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 多結晶 ,  ホスホレン ,  線形弾性