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J-GLOBAL ID：201802229542907722   整理番号：18A1284550

乾燥技術の新展開-プロセスと装置の開発-

著者 (2件)： 吉崎理華 (東レリサーチセ) ,  山本美夏 (東レリサーチセ)
資料名： TRC News (Tokyo) (Web)  (TRC News (Tokyo) (Web))
巻： 2018  号： Mar  ページ： WEB ONLY  発行年： 2018年03月 
JST資料番号： U1392A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 乾燥は,あらゆる生産分野で必要不可欠な工程である。電子部品や自動車などの製造工程において,乾燥工程が製品の品質や製造コストを左右することも多い。近年では,乾燥工程の管理が,最終製品が目的とする品質と機能性の維持向上の鍵となっている。そのため,乾燥技術の研究開発・機器の改良や革新は,あらゆる基材,最終製品を対象に進められている。(著者抄録)

シソーラス用語： *乾燥 ,  蒸発 ,  乾燥速度 ,  含水量 ,  特許調査 ,  特許出願 ,  真空乾燥 ,  流動乾燥 ,  噴霧乾燥

分類 (2件)： 固体の乾燥  (XD03022F) ,  気体の乾燥(減湿)・増湿  (XD02020Q)

引用文献 (2件)：

• “乾燥技術の新展開 -プロセスと装置の開発-”(2017), 東レリサーチセンター.
• 特許庁 技術分野別特許マップ,′′乾燥技術′′, (2000), 特許庁.

タイトルに関連する用語 (3件)： 展開 ,  プロセス ,  開発