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J-GLOBAL ID：201802229768628311   整理番号：18A0308391

低温プロセスと表面改質によるオルガノポリシロキサンを用いた反射防止薄膜ガラスの形成

Formation of Antireflection Thin-Film Glasses Using Organopolysiloxane by Low-Temperature Process and Surface Modification

著者 (9件)： Miwa Hiroyuki (Environmental and Renewable Energy Systems Division, Graduate School of Engineering, Gifu University) ,  Kodama Atsuki (Environmental and Renewable Energy Systems Division, Graduate School of Engineering, Gifu University) ,  Win Htay (Environmental and Renewable Energy Systems Division, Graduate School of Engineering, Gifu University) ,  Murakami Koichi (Environmental and Renewable Energy Systems Division, Graduate School of Engineering, Gifu University) ,  Takahashi Taku (Department of Electrical and Electronics, Faculty of Engineering, Gifu University) ,  Ohashi Fumitaka (Department of Electrical and Electronics, Faculty of Engineering, Gifu University) ,  Ohashi Fumitaka (Next Generation Energy Research Center, Gifu University) ,  Nonomura Shuichi (Environmental and Renewable Energy Systems Division, Graduate School of Engineering, Gifu University) ,  Nonomura Shuichi (Next Generation Energy Research Center, Gifu University)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 59  号： 2  ページ： 251-254(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反射防止膜として太陽電池モジュールの変換効率を改良するため,多孔質SiO_x薄膜を市販オルガノポリシロキサン基水ガラス(LG)を用いて作製した。インク作製法などの多孔質SiO_x薄膜の作製の最適化のためLGへのイソプロピルアルコール(IPA)の添加,スピンコーティング,及びアニーリングを行った。インクへの超純水の添加とその後の300°Cのアニーリングにより600nmの波長で4.6%の反射率の多孔質SiO_x薄膜が形成できた,その屈折率は1.33と評価され,これはMgF₂の様な従来の反射防止膜より低い。さらに,超純水の添加無しで室温で作製された反射防止膜の反射防止効果は室温大気圧に於けるエキシマ真空紫外線の照射による表面改質で改善された。この処理は膜の反射率を600nmで8.1%から7.7%に改良し屈折率を1.44から1.42の改良した,これは通常のガラスより低い。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *反射防止膜 ,  太陽電池 ,  基板 ,  水ガラス ,  *ポリシロキサン ,  *スピンコーティング ,  *表面改質 ,  真空紫外線 ,  *紫外線照射 ,  *熱処理 ,  *反射率 ,  *屈折率 ,  反射スペクトル
準シソーラス用語： *多孔質膜 ,  低温プロセス ,  無アルカリガラス

著者キーワード (5件)： antireflection film ,  liquid glass ,  surface modification ,  solar cell ,  excimer irradiation

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

引用文献 (13件)：

• 1) A.K. Barua, A. Sarker, A.K. Bandyopadhyay, D. Das and S. Ray: Proc. 28th IEEE PV Spec. Conf., (Anchorage, Alaska, USA, September 17-22, 2000), (2000) pp. 829-832.
• 2) W.S. Choi, K. Kim, J. Yi and B. Hong: Mater. Lett. 62 (2008) 577-580. 10.1016/j.matlet.2007.06.019
• 3) W.S. Choi and B. Hong: J. Korean Phys. Soc. 45 (2004) S864-S867.
• 4) C.J. Brinker and M.S. Harrington: Sol. Energy Mater. 5 (1981) 159-172. 10.1016/0165-1633(81)90027-7
• 5) H.H. Yang and G.C. Park: Trans. Electr. Electron. Mater. 11 (2010) 33-36. 10.4313/TEEM.2010.11.1.033

タイトルに関連する用語 (6件)： 低温プロセス ,  表面改質 ,  オルガノポリシロキサン ,  反射防止 ,  薄膜 ,  ガラス