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J-GLOBAL ID:201802230506815459   整理番号:18A1378311

P-6:最新のエッチストップ構造酸化物TFTの開発【JST・京大機械翻訳】

P-6: Development of Advanced Etch-Stop Structures Oxide TFT
著者 (13件):
資料名:
巻: 49  号:ページ: 1212-1214  発行年: 2018年 
JST資料番号: E0907A  ISSN: 0097-966X  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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SDとIGZO層自己整合プロセスを用いた先進Etch-Stop構造In-Ga-Zn-酸化物薄膜トランジスタ(A-ES TFT)は,エッチ停止層(ESL)酸化物TFTよりも低い生産コスト,寄生容量が少ない。また,優れた電気的性質とバイアス安定性を見出し,2つのフォトマスクだけでA-ES TFTを用いて12.5インチ液晶パネルを作製した。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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トランジスタ 
タイトルに関連する用語 (5件):
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