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J-GLOBAL ID：201802231625400626   整理番号：18A1675850

プロトMPEXの軽イオンヘリコン源と加熱システムに対する微分ポンピング要求【JST・京大機械翻訳】

Differential pumping requirements for the light-ion helicon source and heating systems of Proto-MPEX

著者 (7件)： Caneses J. F. (Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, Tennessee 37831, USA) ,  Piotrowicz P. A. (Center for Plasma-Material Interactions, Department of Nuclear, Plasma and Radiological Engineering, University of Illinois Urbana-Champaign, Urbana, Illinois 61801, USA) ,  Biewer T. M. (Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, Tennessee 37831, USA) ,  Caughman J. B. O. (Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, Tennessee 37831, USA) ,  Goulding R. H. (Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, Tennessee 37831, USA) ,  Kafle N. (University of Tennessee, Knoxville, Tennessee 37996, USA) ,  Rapp J. (Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, Tennessee 37831, USA)
資料名： Physics of Plasmas  (Physics of Plasmas)
巻： 25  号： 8  ページ： 083518-083518-11  発行年： 2018年 
JST資料番号： T0641B  ISSN： 1070-664X  CODEN： PHPAEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高密度重水素ヘリコンプラズマ(>3×10~19m~3)の電子とイオン加熱の物理学を研究中である。理論的推定により,効率的な加熱に対しては,中性気体含有量が非常に低い(<0.1Pa)加熱部分における放電が,衝突損失と中性粒子との電荷交換相互作用を最小化するために必要であることを示した。しかし,この要求は通常,高密度,軽イオンヘリコン源で用いられる中性ガス圧(1~2Pa)とは適合しない。これらの競合する要求を満たすために,差動ポンピング技術が必要である。本論文では,非常に低い中性ガス含有量(<0.01Pa)と高いイオン化度(>75%)をもつ高密度放電(2~6×10~19m~3)の生成を実証した。結果は,最良の給油位置がプラズマ源の上流であることを示した。これらの放電を生成するために考慮しなければならない重要な側面について詳述した。(1)給油位置,高周波パルス長,磁場構成,(2)ガス注入の流量とタイミング,(3)伝導制限要素の使用。Copyright 2018 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *微分 ,  放電 ,  中性粒子 ,  イオン化 ,  磁場 ,  給油 ,  流量 ,  *ヘリコン ,  プラズマ源 ,  交換相互作用 ,  電荷
準シソーラス用語： RFパルス ,  ガス圧 ,  中性 ,  高密度 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 軽イオン ,  ヘリコン ,  加熱システム ,  微分 ,  ポンピング