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J-GLOBAL ID：201802231861407816   整理番号：18A2106018

大気圧プラズマジェットからの水性酸素ラジカルによるコロイド状水素化ナノダイヤモンドのヒドロキシル化と自己集合【JST・京大機械翻訳】

Hydroxylation and self-assembly of colloidal hydrogenated nanodiamonds by aqueous oxygen radicals from atmospheric pressure plasma jet

著者 (6件)： Jirasek Vit (Institute of Physics, Czech Academy of Sciences, Cukrovarnicka 10, 160 21 Prague 6, Czech Republic. [e-mail]) ,  Stehlik Stepan ,  Stenclova Pavla ,  Artemenko Anna ,  Rezek Bohuslav ,  Kromka Alexander
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 8  号： 66  ページ： 37681-37692  発行年： 2018年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 気液型反応器におけるナノ粒子のプラズマ化学的表面改質は,湿式化学法または熱的および乾燥プラズマ処理に対する制御可能で,特異的で,低コストで環境に優しい代替法を可能にする。ここでは,He中で0.6%O_2で作動する大気圧高周波マイクロプラズマジェット(μ-APPJ)を用いて,水中に懸濁した約3nm水素化デトネーションナノダイヤモンド(H-DNDs)の表面に水性酸素ラジカル(AOR)を供給した。AOR処理したH-DND試料をFTIRとXPS分光法およびAFMとSEM画像により特性化した。主な化学反応機構は,O又はOHラジカルによる表面水素原子の引き抜き及びOH基の結果としての付着により同定され,それにより,DND表面上のアルコール,カルボキシル及びアルデヒドの濃度を増加させた。FTIRスペクトルはまた,AOR処理H-DNDs上の表面水の構造的再配置を明らかにした。しかし,AOR処理H-DNDsのゼータ電位は依然としてプラス(+45mVから+30mVへの減少)のままである。化学修飾は,AOT処理H-DNDsがSi基板上に堆積されたとき,ナノスケール鎖状凝集体の形成をもたらした。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *水素化 ,  キャラクタリゼーション ,  化学修飾 ,  アルデヒド ,  *ヒドロキシ化 ,  ζ電位 ,  ヘリウム ,  懸濁液 ,  アルコール ,  FTIR分光法 ,  表面改質 ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： ナノスケール ,  再配列 ,  *酸素ラジカル , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 表面処理  (YH04112X) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (7件)： 大気圧プラズマジェット ,  酸素ラジカル ,  コロイド ,  水素化 ,  ナノダイヤモンド ,  ヒドロキシル化 ,  自己集合