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J-GLOBAL ID：201802232482894918   整理番号：18A0723278

Na_2O-SiO_2スラグ処理を用いたシリコンKERFからのホウ素のクリーンな強化除去【JST・京大機械翻訳】

Clean enhancing elimination of boron from silicon kerf using Na₂O-SiO₂ slag treatment

著者 (8件)： Huang Liuqing (Fujian Key Laboratory of Advanced Materials, College of Materials, Xiamen University, Xiamen, 361005, PR China) ,  Huang Liuqing (Department of Materials Science and Engineering, University of Toronto, Toronto, ON, M5S 3E4, Canada) ,  Chen Juan (Department of Pharmacy, Zhongshan Hospital, Xiamen University, Xiamen, 361004, PR China) ,  Fang Ming (Fujian Key Laboratory of Advanced Materials, College of Materials, Xiamen University, Xiamen, 361005, PR China) ,  Thomas Sridevi (Department of Materials Science and Engineering, University of Toronto, Toronto, ON, M5S 3E4, Canada) ,  Danaei Abdolkarim (Department of Materials Science and Engineering, University of Toronto, Toronto, ON, M5S 3E4, Canada) ,  Luo Xuetao (Fujian Key Laboratory of Advanced Materials, College of Materials, Xiamen University, Xiamen, 361005, PR China) ,  Barati Mansoor (Department of Materials Science and Engineering, University of Toronto, Toronto, ON, M5S 3E4, Canada)
資料名： Journal of Cleaner Production  (Journal of Cleaner Production)
巻： 186  ページ： 718-725  発行年： 2018年 
JST資料番号： W0750A  ISSN： 0959-6526  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンカーフ廃棄物は太陽電池生産のための高純度シリコンの回収のための二次資源として使用できる。ホウ素はシリコン中の最も有害な不純物の一つであり,その濃度は厳密に制御されるべきである。スラグ処理は,シリコンカーフから不純物,特にホウ素を抽出する有効な方法であると考えられている。本研究は,スラグ処理による鋸屑廃棄物から高純度シリコンを製造するためのプロセスの実現可能性と最適化を研究した。研究したスラグ系はNa_2O-SiO_2であり,保持時間,スラグ組成,およびスラグ:kerf比がホウ素分布に及ぼす影響を研究した。1923Kでのケイ素カーフの精製のための最適条件は,65wt%Na_2O-35wt%SiO_2のスラグと30分間の処理であることがわかった。これにより,シリコン中のホウ素濃度は8.6から1.0ppmwに減少し,除去効率は88%に相当した。ホウ素移動機構の研究は,スラグ中のホウ素の物質移動が全体プロセスの律速段階である可能性があることを示した。ケイ素とスラグ中のホウ素の物質移動係数は,それぞれ3.6×10~-6cm s-1と5.8×10~-6cm s-1であった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 保持時間 ,  物質移動 ,  リサイクル ,  太陽電池 ,  律速 ,  *ケイ素 ,  廃棄物 ,  最適条件 ,  不純物 ,  *ホウ素 ,  物質移動係数 ,  最適化 ,  *スラグ
準シソーラス用語： 除去効率 ,  高純度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： リサイクル ,  シリコンカーフ ,  ホウ素 ,  スラグ処理 ,  除去機構

分類 (1件)： 資源回収利用  (SC05060V)

タイトルに関連する用語 (4件)： スラグ ,  シリコン ,  ホウ素 ,  強化