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J-GLOBAL ID：201802233269066671   整理番号：18A2149226

反応性高出力インパルスマグネトロンスパッタリング法により作製したDLC膜のAr/CH₄およびAr/C₂H₄混合物の比較検討

Comparative investigation on DLC films prepared by Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering of Ar/CH₄ and Ar/C₂H₄ Mixture

著者 (2件)： SAKAI K. (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  KIMURA T. (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 40th  ページ： 145-146  発行年： 2018年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *DLC膜 ,  *アルゴン ,  *混合物 ,  反応性スパッタリング ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *蒸着膜 ,  Ramanスペクトル ,  Raman分光法 ,  堆積速度 ,  内部応力 ,  スペクトルシフト ,  Ramanシフト ,  アルカン ,  アルケン
準シソーラス用語： *HiPIMS

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (2件)： メタン ,  エチレン

タイトルに関連する用語 (9件)： 反応性 ,  高出力 ,  インパルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  DLC膜 ,  Ar ,  混合物 ,  比較検討