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J-GLOBAL ID：201802233665113495   整理番号：18A0442993

ガラス基板上の伝送線路の作製【Powered by NICT】

The fabrication of transmission line on the glass substrate

著者 (3件)： Li H. Y. (Institute of Microelectronics, A*STAR (Agency for Science, Technology and Research), 2 Fusionopolis Way, #08-02 Innovis Tower, Singapore 138634) ,  Kim Do-Won (Institute of Microelectronics, A*STAR (Agency for Science, Technology and Research), 2 Fusionopolis Way, #08-02 Innovis Tower, Singapore 138634) ,  Sekhar Vasarla Nagendra (Institute of Microelectronics, A*STAR (Agency for Science, Technology and Research), 2 Fusionopolis Way, #08-02 Innovis Tower, Singapore 138634)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： EPTC  ページ： 1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス基板を高抵抗率Si基板と比べて低コストと低RF損失の利点を持っているが,ウエハ透明性のために従来のCMOS製造システムによる製造プロセス内での課題である。一時的結合と剥離技術はプロセス開発の範囲内で使用した。送電線はプロセス最適化後のガラス基板上に設計し作製した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *伝送線路 ,  生産工程 ,  送電線 ,  CMOS ,  電気抵抗率 ,  生産システム ,  プロセス開発
準シソーラス用語： プロセス最適化 ,  透明性 ,  シリコンウエハ ,  *ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 磁性材料  (NA04040H) ,  伝送線  (NC04030C)

タイトルに関連する用語 (3件)： ガラス基板 ,  伝送線路 ,  作製