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J-GLOBAL ID：201802233672464254   整理番号：18A2030049

グロー放電プラズマ中の窒素による酸化グラフェンの還元と共有結合修飾【JST・京大機械翻訳】

Reduction and covalent modification of graphene-oxide by nitrogen in glow discharge plasma

著者 (3件)： Mohai M. (Institute for Materials and Environmental Chemistry, Research Centre for Natural Sciences, Hungarian Academy of Sciences, PO Box 286, Budapest, H-1519, Hungary) ,  Laszlo K. (Department of Physical Chemistry and Materials Science, Budapest University of Technology and Economics, Budapest, Hungary) ,  Bertoti I. (Institute for Materials and Environmental Chemistry, Research Centre for Natural Sciences, Hungarian Academy of Sciences, PO Box 286, Budapest, H-1519, Hungary)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 50  号： 11  ページ： 1207-1212  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,種々の窒素含有ガス(主にNH_3とN_2)中の酸化グラフェン試料の薄層のプラズマ処理を行った。実験はX線光電子分光計の調製チャンバーで行い,処理表面の「その場」特性化を可能にした。試料に対する正のプラズマイオンを加速する0~300Vの間の試料に負の電圧を印加することにより,上部表面への窒素の導入が強化された。2種類のプラズマガスを10分間反応させると,酸化グラフェン試料の上部原子層にかなりの量の窒素(約10原子%)が形成された。NH_3とN_2プラズマ処理を比較したとき,NH_3プラズマを適用すると,より完全な還元と密接に類似した量の窒素が見出された。バイアスを増加させると,N含有量はO含有量の減少と共に増加した。高分解能C1s,O1s,及びN1sスペクトルは広く,異なる化学状態を示した。O1sとN1s線のピークエンベロープは本質的に3に分解されたが,C1sスペクトルは5つの異なる,良く分離されたピークに分解され,全ての試料に対して同一であった。成分ピークは,特定の化学結合状態(N1s:398.3eV sp2ピリジンN,399.7eV sp2ピロール,ジジンまたはトリアジンN,401.0eV N,O1s:530.8eVカルボニル,532.2eVエーテル,エポキシ,アルコール,エステルC=O,533.6eVエステルC-O-C,カルボキシルOH)に帰属した。C-OとC-N結合状態の相対量は,バイアスの増加で行った処理の進歩により著しく変化した。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線光電子分光法 ,  *還元 ,  電圧 ,  *プラズマ ,  薄膜 ,  化学結合 ,  プラズマ処理 ,  *窒素 ,  *グロー放電 ,  X線光電子スペクトル ,  アルコール ,  キャラクタリゼーション ,  バイアス ,  イオン
準シソーラス用語： チャンバ ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： グロー放電NH3プラズマ ,  酸化グラフェンの還元 ,  N修飾酸化グラフェン ,  XPS定量化

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (5件)： グロー放電プラズマ ,  窒素 ,  酸化グラフェン ,  還元 ,  共有結合修飾