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J-GLOBAL ID：201802234072421103   整理番号：18A0422522

気相ふっ素化反応のための電着した階層ナノ構造ニッケル皮膜による触媒マイクロリアクタ【Powered by NICT】

Catalytic microreactor with electrodeposited hierarchically nanostructured nickel coatings for gas-phase fluorination reactions

著者 (17件)： Sansotera Maurizio (Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica, Politecnico di Milano, Via Mancinelli 7, 20131 Milano, Italy) ,  Sansotera Maurizio (Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali (UdR-PoliMi), via G. Giusti, 9, 50121 Firenze, Italy) ,  Baggioli Alberto (Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica, Politecnico di Milano, Via Mancinelli 7, 20131 Milano, Italy) ,  Baggioli Alberto (Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali (UdR-PoliMi), via G. Giusti, 9, 50121 Firenze, Italy) ,  Ieffa Simona (Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica, Politecnico di Milano, Via Mancinelli 7, 20131 Milano, Italy) ,  Ieffa Simona (Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali (UdR-PoliMi), via G. Giusti, 9, 50121 Firenze, Italy) ,  Tedesco Mariella (Dipartimento di Ingegneria per l’Ambiente e il Territorio e Ingegneria Chimica, Universita della Calabria, Via P. Bucci Cubo 44a, 87036 Arcavacata di Rende (CS), Italy) ,  Sacchi Benedetta (Dipartimento di Chimica, Universita degli Studi di Milano, Via Golgi 19, 20133, Milano, Italy) ,  Sacchi Benedetta (Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali (UdR-UniMi), via G. Giusti, 9, 50121 Firenze, Italy) ,  Bianchi Claudia L. (Dipartimento di Chimica, Universita degli Studi di Milano, Via Golgi 19, 20133, Milano, Italy) ,  Bianchi Claudia L. (Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali (UdR-UniMi), via G. Giusti, 9, 50121 Firenze, Italy) ,  Navarrini Michele (Smaltiriva - Praxair s.r.l., SS639, 23804, Monte Marenzo (LC), Italy) ,  Migliori Massimo (Dipartimento di Ingegneria per l’Ambiente e il Territorio e Ingegneria Chimica, Universita della Calabria, Via P. Bucci Cubo 44a, 87036 Arcavacata di Rende (CS), Italy) ,  Magagnin Luca (Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica, Politecnico di Milano, Via Mancinelli 7, 20131 Milano, Italy) ,  Magagnin Luca (Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali (UdR-PoliMi), via G. Giusti, 9, 50121 Firenze, Italy) ,  Navarrini Walter (Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica, Politecnico di Milano, Via Mancinelli 7, 20131 Milano, Italy) ,  Navarrini Walter (Consorzio Interuniversitario Nazionale per la Scienza e Tecnologia dei Materiali (UdR-PoliMi), via G. Giusti, 9, 50121 Firenze, Italy)
資料名： Journal of Fluorine Chemistry  (Journal of Fluorine Chemistry)
巻： 205  ページ： 22-29  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0438C  ISSN： 0022-1139  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： F_2不動態化nanosctructured Ni被覆上に担持したCsF触媒上で,CF_3OF,次亜ふっ素酸トリフルオロメチルを合成するための非希釈カルボニル二ふっ化物および元素状ふっ素の反応の触媒マイクロ反応器の作製を研究した。触媒固定化のためのnanosctructured Ni担体は構造的特徴の階層的分化のための,低電流密度ステップ後短い高電流密度1から成る,2段法によって電着した。結晶改質剤,ラウリル硫酸ナトリウム,抗孔食剤としてのジエタノールアミンとNiCl_2の水溶液を電解質として用いた。一定pH Ni電析はHCl/H_3BO_3ベースバッファによる1年から4年までの範囲のpHにおけるH_2SO_4エッチングしたCu基板上に行った。不動態化は非希釈F_2の300mbarまでで行った。XRD,XPS,SEM,AFM,及び静的接触角測定を行った。pH3電解質から得られたNi被覆のキャラクタリゼーションデータに基づいてマイクロリアクタ製作のために選択された,構造化されたNi層の再現性と均一性に起因していた。触媒マイクロリアクタは,純粋な反応物からCF_3OFの定量的生産を可能にし,需要と,合成の熱と安全性対照と比較して,臨界を除去した。合成した次亜ふっ素酸のCF_3O基選択的移動能力は近年医薬品およびアグロケミカル産業において関心が高くなっている。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *触媒 ,  フッ化物 ,  構造特性 ,  *マイクロリアクタ ,  接触角 ,  フッ素 ,  電解質 ,  塩酸 ,  *フッ素化 ,  希釈 ,  被覆 ,  不動態化 ,  *電着 ,  *ナノ構造 ,  X線回折 ,  *ニッケル

著者キーワード (6件)： マイクロリアクタ ,  によるフッ素化 ,  次亜ふっ素酸 ,  不動態化 ,  電着 ,  階層ナノ構造Ni

分類 (3件)： 芳香族単環ハロゲン化合物  (CF05030H) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  アミノ酸  (CF10070V)

タイトルに関連する用語 (9件)： 気相 ,  ふっ素化反応 ,  電着 ,  階層 ,  ナノ構造 ,  ニッケル ,  皮膜 ,  触媒 ,  マイクロリアクタ