抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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スマートフォンのための電力管理集積回路(PMIC)では,図で示されたように,N型パワーMOSFETを用いたカスケードバックと低ドロップアウト(LDO)調節因子は一般的に高い変換効率,電力品質と高密度集積に利用されている。27.8.1[1]。応用にPMICからプリント回路基板(PCB)上の長い経路は大きなL_PCBとR_PCBの著明な寄生効果をもたらし,応用面の近くに置かれた多層セラミックコンデンサ(MLCC)が必要である。複雑で予測できないPCBネットワークはLDOループにおける予想外の極と零点を誘導する広い帯域幅(BW)と高速過渡応答特性をもつLDO設計することは困難である。さらに,ユニバーサルフラッシュ記憶(UFS)と埋込みマルチメディアカード(eMMC)のような,フラッシュメモリは短周期重から軽へのへの重い(H L H)負荷過渡LDO設計はより困難となっている。Fig.27.8.1に示した波形では,V_OUTのオーバーシュートは,重-軽負荷過渡によって引き起こされるときパワーMOSFET(V_GATE)のゲート電圧は0Vに引かれて行く。光に重負荷過渡はV_OUTオーバシュートとモーメントt_0で起こり,N型パワーMOSFETを駆動デッドゾーンを持っているのでV_OUTは大きなアンダーシュートに苦しんでいる。駆動デッドゾーンはV_OUTレベルよりもV_GATE低いゲート電圧の領域として定義し,パワーMOSFETは,電流を提供しなかった。パワーMOSFETと補償静電容量は重容量負荷をかけることになる過渡性能が劣化した。先行技術では,増幅器(amp)とバッファ段を容易安定性補償のための大電流(I_Q)と高いスルーレート(SR)を消費する。さらに,V_OUTでダミー負荷電流(I_dummyload)またはV_GATEで複雑なクランプ機能はフラッシュメモリの短周期HLH負荷過渡に利用されている。しかし,効率と回路複雑さは,結果として屠殺した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】