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J-GLOBAL ID：201802235112294003   整理番号：18A0152581

ワンポットH eckと還元:Lewis酸で促進されたフラバン類の効率的合成への応用【Powered by NICT】

One-Pot Heck and Reduction: Application towards Efficient Synthesis of Flavans Promoted by Lewis Acid

著者 (4件)： Rana Nishu (Department of Chemistry, Indian Institute of Technology, Hyderabad, Kandi -, 502 285, Sangareddy, Telangana, INDIA) ,  Niharika Pedireddi (Department of Chemistry, Indian Institute of Technology, Hyderabad, Kandi -, 502 285, Sangareddy, Telangana, INDIA) ,  Kishore Dakoju Ravi (Department of Chemistry, Indian Institute of Technology, Hyderabad, Kandi -, 502 285, Sangareddy, Telangana, INDIA) ,  Satyanarayana Gedu (Department of Chemistry, Indian Institute of Technology, Hyderabad, Kandi -, 502 285, Sangareddy, Telangana, INDIA)
資料名： Chemistryselect  (Chemistryselect)
巻： 2  号： 33  ページ： 10809-10813  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2528A  ISSN： 2365-6549  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 官能化フラバンの合成のための有効な2段プロセスを提示した。提案した方法は,アリルアルコール類と2-ヨードフェノールとそれに続く還元によりとのHeck反応を含むワンポット法から構成されている。,温和な反応条件の下で,Lewis酸で媒介された分子内環化処理によりこれらのジオールはフラバンを与えた。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *Lewis酸 ,  Heck反応 ,  ジオール ,  官能化 ,  *還元 ,  酸素複素環化合物 ,  フラボノイド ,  芳香族縮合化合物
準シソーラス用語： 分子内環化 ,  反応条件 ,  アリルアルコール類 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： アリル性アルコール ,  ジオール ,  フラバン ,  ヘックカップリング ,  Lewis酸

分類 (1件)： ピランの縮合誘導体  (CF07093I)

物質索引 (2件)： 2-ヨードフェノール ,  フラバン

タイトルに関連する用語 (6件)： ポット ,  還元 ,  Lewis酸 ,  促進 ,  フラバン ,  応用