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J-GLOBAL ID：201802235637055804   整理番号：18A2027775

柔軟なポリジメチルシロキサン基板を用いた機械的に調整可能なTHzメタ表面を開発するための「逆作製」技術【JST・京大機械翻訳】

“Reverse Fabrication” Technique to Develop Mechanically Tunable THz Metasurfaces using a Flexible Polydimethylsiloxane Substrate

著者 (9件)： Ambhire S. C. (Tata Institute of Fundamental Research, Colaba, Mumbai, Maharashtra, 400005, India) ,  Palkhivala S. (Tata Institute of Fundamental Research, Colaba, Mumbai, Maharashtra, 400005, India) ,  Agrawal A. (Tata Institute of Fundamental Research, Colaba, Mumbai, Maharashtra, 400005, India) ,  Gupta A. (Tata Institute of Fundamental Research, Colaba, Mumbai, Maharashtra, 400005, India) ,  Rana G. (Indian Institute of Technology Bombay, Powai, Mumbai, Maharashtra, 400076, India) ,  Mehta R. (Vidya Vihar Campus, Birla Institute of Technology and Science, Pilani, Rajasthan, 333031, India) ,  Bhattacharya A. (Tata Institute of Fundamental Research, Colaba, Mumbai, Maharashtra, 400005, India) ,  Venugopal A. (Tata Institute of Fundamental Research, Colaba, Mumbai, Maharashtra, 400005, India) ,  Prabhu S. S. (Tata Institute of Fundamental Research, Colaba, Mumbai, Maharashtra, 400005, India)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： IRMMW-THz  ページ： 1-2  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,テラヘルツ(THz)周波数で動作する弾性ポリジメチルシロキサン(PDMS)膜上に調整可能な応答を有する機械的に伸長可能なメタ表面を作製するための新しい技術を実証した。メタ表面の応答の調整可能性は,機械的伸張に起因する歪による個々の微細構造の物理的寸法の変化に基づいている。この技術は高速で,容易で,文献で報告されている確立されたスクリーン印刷や他の技術とは対照的に,高分解能電子ビームパターン形成を用いることができる。さらに,素子の応答の変化は,広い範囲の歪に対して高い再現性をもつ線形依存性を示した。したがって,この技術は,通信技術,遠隔歪センシング,および生物学的応用における応用のための高い可能性を持っている。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電子ビーム ,  線形性 ,  高分解能 ,  微細構造 ,  再現性 ,  周波数 ,  パターン形成 ,  *延伸 ,  通信技術 ,  スクリーン印刷 ,  テラヘルツ波 ,  高速度
準シソーラス用語： ひずみ検出 ,  *メタ表面 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリジメチルシロキサン ,  メタ表面 ,  開発 ,  作製