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J-GLOBAL ID：201802235978359681   整理番号：18A0721778

新しい高ホウ素除去ポリアミド逆浸透膜【JST・京大機械翻訳】

Novel high boron removal polyamide reverse osmosis membranes

著者 (4件)： Wang Shuhao (Center for Membrane Separation and Water Science & Technology, Ocean College, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, PR China) ,  Zhou Yong (Center for Membrane Separation and Water Science & Technology, Ocean College, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, PR China) ,  Gao Congjie (Center for Membrane Separation and Water Science & Technology, Ocean College, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, PR China) ,  Gao Congjie (Water Treatment Technology Development Center, Hangzhou 310012, China)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 554  ページ： 244-252  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半相互貫入ネットワークを有する新しい高ホウ素除去薄膜複合材料(TFC)膜を,m-フェニレンジアミン(MPD)と1,3,5-ベンゼントリカルボニルトリクロリド(TMC)との界面重合(IP)により作製した。ポリイソブチレン(PIB)を,IPの前に有機相に添加した。膜を減衰全反射Fourier変換赤外分光法(ATR-FTIR),X線光電子分光法(XPS),電界放出走査電子顕微鏡(FE-SEM),原子間力顕微鏡(AFM)及びゼータ電位及び接触角分析により特性化した。本研究の結果は,新しいTFC膜が比較的低濃度のPIB(0.30%,m/v)で優れた分離性能を示すことを実証した。膜中の相互貫入PIBの濃度が増加すると,膜形態は明確に変化した。さらに,ホウ素の透過係数は20.84から3.26に減少し,ホウ素の除去率は81.36%から93.12%に増加した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *逆浸透 ,  接触角 ,  X線光電子分光法 ,  キャラクタリゼーション ,  *ホウ素 ,  透過率 ,  界面重合 ,  *ポリアミド ,  FTIR分光法 ,  原子間力顕微鏡 ,  *逆浸透膜 ,  ζ電位
準シソーラス用語： 除去率 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  *ホウ素除去 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 逆浸透 ,  半相互貫入 ,  ホウ素除去 ,  ポリイソブチレン

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： ホウ素除去 ,  ポリアミド ,  逆浸透膜