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J-GLOBAL ID：201802236988181021   整理番号：18A0716477

迅速な術中in situ合成頭蓋形成術【JST・京大機械翻訳】

Rapid Intraoperative in Situ Synthetic Cranioplasty

著者 (4件)： Young Christopher C. (Department of Neurological Surgery, University of Washington, Seattle, Washington, USA) ,  Hanak Brian W. (Department of Neurological Surgery, University of Washington, Seattle, Washington, USA) ,  Patel Anoop P. (Department of Neurological Surgery, University of Washington, Seattle, Washington, USA) ,  Sekhar Laligam N. (Department of Neurological Surgery, University of Washington, Seattle, Washington, USA)
資料名： World Neurosurgery  (World Neurosurgery)
巻： 112  ページ： 161-165  発行年： 2018年 
JST資料番号： A1144A  ISSN： 1878-8750  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 頭蓋骨切除術は頻繁に行われる神経外科的処置であり,頭蓋欠損の範囲は,基礎となる脳,cos症,および患者満足の保護に必要である。頭蓋骨腫の一段階切除と頭蓋欠損の再建を提供する術中のin situ合成頭蓋形成術のための新しい技術を報告する。術中頭蓋形成術の戦略をレビューした。患者の前頭部に良性骨腫を疑った48歳男性が,ヒドロキシアパタイト骨セメント,硬膜補綴,および再吸収可能プレートを用いた一段階手順において外科的切除および一次頭蓋形成術を提供された。病変周囲の頭蓋切除後,硬膜と骨の関与の証拠があった。頭蓋骨切除術を拡大し,含まれる硬膜を切除した。SYNTHECEL硬膜修復は,硬膜欠損を修復するために使用し,同時に,切断垂直骨端への硬膜基質の固定によって頭蓋形成術のための受容体を形成するために固定した。隣接する頭蓋骨の曲率に対して受容体を充填し,輪郭を描くために,Directinject ヒドロキシアパタイト骨セメントを用いた。次に,デルタ吸収可能プレートを骨セメント上に置き,頭蓋に固定した。この技術は,良性頭蓋腫瘍切除のための頭蓋切除後の満足な美容結果を提供した。可能な場合には,一次頭蓋形成術を伴う一段階手術を考慮すべきである。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 曲率 ,  患者 ,  硬膜 ,  腫瘍切除 ,  骨切り術 ,  男性 ,  補綴 ,  ヒドロキシアパタイト ,  骨セメント ,  受容体 ,  *頭蓋骨 ,  基質
準シソーラス用語： 頭蓋骨欠損 ,  *頭蓋 ,  *頭蓋形成術 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 骨セメント ,  頭蓋欠損 ,  頭蓋切除術 ,  頭蓋形成術 ,  その場 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  再吸収可能なプレート

分類 (1件)： 神経系疾患の外科療法  (GN05030J)

タイトルに関連する用語 (1件)： 頭蓋形成術