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J-GLOBAL ID：201802237804304716   整理番号：18A0846371

細胞培養の選択的処理のためのLTCCベースのマイクロプラズマ源【JST・京大機械翻訳】

LTCC-based micro plasma source for the selective treatment of cell cultures

著者 (9件)： Fischer M. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany) ,  Stubenrauch M. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany) ,  Naber A. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany) ,  Gutzeit N. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany) ,  Klett M. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany) ,  Singh S. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany) ,  Schober A. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany) ,  Witte H. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany) ,  Muller J. (Institute of Micro-and Nanotechnologies MacroNano, Technische Universitaet Ilmenau, Ilmenau, Germany)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： EMPC  ページ： 1-5  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ライフサイエンスにおける利用のための小型セラミック大気プラズマ源を開発した。それはLTCC技術(低温共焼成セラミック)で製造される。プラズマ発生は,誘電体バリア放電(DBD)をもたらす埋込み電極に基づいている。使用した技術により,微小な特徴サイズ(電極幅150μm,障壁厚さ40μmなど)とμm範囲の精度が可能になり,システムの電力消費が非常に低くなる(約5W)。したがって,使用点での最大温度は40°C以下に保つことができる。製造プロセスの柔軟性(層積層,スクリーン印刷,ピコ秒レーザなどによるパターン形成)は,ロバストな流体構造(チャネル,チャンバ,ガス分布など)のような付加的な特徴と電子部品の直接的な実装を提供する。セラミック部品の設計と同様に技術概念とマルチウェルプレートフォーマットに適合するハンドホールドを実証した。システムのプラズマはシステムの組立と電気励起に依存して調整できる。生体適合性と細胞培養(使用点での低温)との実験的適合性を証明するために,マルチウェルプレートの底部における温度測定のための方法を開発した。細胞培養に及ぼすプラズマ源の影響の最初の結果を示した。細胞培養(オゾン形成,紫外線照射など)に及ぼすそれらの影響と同様に,プラズマで起こる影響を別々に考慮した。さらに,マイクロプラズマ源による処理の細胞耐性をL929線維芽細胞で調べた。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 無声放電 ,  セラミック ,  低温 ,  適応性 ,  *プラズマ ,  *プラズマ源 ,  オゾン ,  チャネル ,  *細胞培養 ,  電力消費 ,  紫外線照射 ,  スクリーン印刷 ,  温度測定 ,  パターン形成
準シソーラス用語： *マイクロプラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 細胞培養 ,  LTCC ,  プラズマ源