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J-GLOBAL ID：201802238141397005   整理番号：18A1949050

フッ化ビスマス薄膜の電気化学的その場合成と光触媒活性【JST・京大機械翻訳】

Electrochemical In-situ Synthesis and Photocatalytic Properties of BiF3 Thin Films

著者 (8件)： Zhao Zu (太原理工大学化学化工学院,太原,030024) ,  Li Rui (太原理工大学化学化工学院,太原,030024) ,  Zhang Xiaochao (太原理工大学化学化工学院,太原,030024) ,  Zhang Zhangming (太原理工大学化学化工学院,太原,030024) ,  Liu Jianxin (太原理工大学化学化工学院,太原,030024) ,  Wang Yawen (太原理工大学化学化工学院,太原,030024) ,  Wang Yunfang (太原理工大学化学化工学院,太原,030024) ,  Fan Caimei (太原理工大学化学化工学院,太原,030024)
資料名： Gaodeng Xuexiao Huaxue Xuebao  (Gaodeng Xuexiao Huaxue Xuebao)
巻： 39  号： 8  ページ： 1775-1781  発行年： 2018年 
JST資料番号： C2116A  ISSN： 0251-0790  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： X線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),透過型電子顕微鏡(TEM)および透過型電子顕微鏡(TEM)により,BiF3薄膜を合成した。UV-Vis拡散反射スペクトル(UV-VisDRS)および密度汎関数理論(DFT)を用いて,薄膜の結晶構造,形態,光学的性質およびバンド構造を特性評価した。ローダミンB(RhB)をターゲット分解物とし、薄膜の光触媒活性と安定性を考察した。その結果,BiF3薄膜は,ナノフレーク構造,高い結晶純度,良好な光触媒活性及び安定性を持ち,その伝導バンド及び価電子バンドは,それぞれ,Bi6p及びF2p軌道の電子寄与によることが判明した。BiF3薄膜の構造とモルフォロジーは,電解質濃度の増加に伴い増加し,光触媒活性は最初増加し,次に低下し,電解質NH4F濃度(質量分率)が1.5%のとき,BiF3薄膜のナノ薄片は,明らかな交差分布を示した。この種の構造配列が反応物質の輸送と光の反射に有利であり、触媒の反応空間と光の利用率を高め、最適な光触媒活性を示した。BiF3薄膜は模擬太陽光照射5h後にRhB分解率99.1%、且つ4回繰り返し使用し、依然として81%以上を維持した。電気化学的Bi基板上のBiF3薄膜のその場成長機構も提案した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  X線回折 ,  *電気化学 ,  結晶構造 ,  *触媒 ,  電解質 ,  走査電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  結晶 ,  純度 ,  モルフォロジー
準シソーラス用語： ナノプレートレット ,  ナノフレーク ,  *光触媒活性 ,  *その場合成 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： ビスマス ,  薄膜 ,  電気化学 ,  その場合成 ,  光触媒活性