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J-GLOBAL ID：201802239698652265   整理番号：18A0078660

タンタル二ほう化膜の構造,組成及びトライボロジー特性に及ぼすDCマグネトロンスパッタリングパラメータの影響【Powered by NICT】

Effect of DC magnetron sputtering parameters on the structure, composition and tribological properties of tantalum diboride films

著者 (7件)： Pogrebnjak A. D. (Sumy State University, Sumy, Ukraine) ,  Goncharov A. A. (Sumy State University, Sumy, Ukraine) ,  Yunda A. N. (Sumy State University, Sumy, Ukraine) ,  Shelest I. V. (Sumy State University, Sumy, Ukraine) ,  Buranich V. V. (Sumy State University, Sumy, Ukraine) ,  Konarski P. (Tele and Radio Research Institute, Warsaw, Poland) ,  Budzynski P. (Lublin University of Technology, Lublin, Poland)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： NAP  ページ： 01PCSI36-1-01PCSI36-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： タンタル二ほう化膜は種々のスパッタリング条件下で直流マグネトロンスパッタリングシステムを用いてステンレス鋼基板上に堆積した。試料のX線回折解析を行った。深さにおける被覆組成のRutherford後方散乱と二次イオン質量分析法を用いて行った。被覆の摩擦係数と摩耗は,「ピンオンディスク」法により決定した。得られた被覆の構造,組成およびトライボロジー特性に及ぼす蒸着条件の影響を評価した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 摩擦係数 ,  X線回折 ,  被覆 ,  Rutherford後方散乱 ,  *スパッタリング ,  ステンレス鋼 ,  蒸着 ,  *ホウ化処理
準シソーラス用語： ピンオンディスク ,  *DCマグネトロンスパッタリング ,  *トライボロジー特性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  金属の放射線による構造と物性の変化  (BK16122N)

タイトルに関連する用語 (6件)： タンタル ,  ほう化 ,  組成 ,  トライボロジー特性 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  パラメータ