文献

J-GLOBAL ID：201802240697264022   整理番号：18A1380502

MOSの薄い固体潤滑膜の低摩擦状態【JST・京大機械翻訳】

Low friction states for thin solid lubricant film of MoS

著者 (1件)： Chu Kwang-Hua R. (College of Mechanical and Electronic Engineering, Fujian Agriculture and Forestry University, Fuzhou, China and Zhu-Mali Centre, Taipei, Taiwan)
資料名： Industrial Lubrication and Tribology  (Industrial Lubrication and Tribology)
巻： 70  号： 4  ページ： 639-644  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0093A  ISSN： 0036-8792  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 【目的】Wendelstein7-X(W7-X)の操作の間,スティック-スリップのような機械的外乱は,超伝導(SC)コイルの原因となる可能性がある。W7-X中のSCコイル間の狭い支持要素に対するMoS_2潤滑(薄膜)の摩擦挙動は,応力寄与(摩擦からの)を制御するための滑り面間の摩擦係数(COF)0.05に対する設計要件があるので,かなり重要である。設計/方法論/アプローチ:著者は,実際の作動条件をシミュレートするために,4.2K,77Kおよび室温条件(高真空で)においてCOFを測定した種々の試料について,以前の摩擦試験を考慮した検証モデルを用いて集中的較正または検証を行った。所見:著者は以前の異常散乱データに対する有用な説明と診断を与えた。MoS_2の性能を向上させるために,著者は,長期運転要求W7-Xを考慮したMoS_2薄膜のための超潤滑状態となり得る,より良いCOF(活性化体積の調整による0.002)を予測した。この論文では,長期間の操作要件W7-Xを考慮したMoS_2薄膜のための超潤滑状態である低COF(活性化体積の調整を通して0.002)を予測するために,Eyringのアプローチを採用した。最後に,電磁負荷における可能な数層MoS_2役割に関する最近の進歩を提供した。Copyright 2018 Emerald Publishing Limited All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： トライボロジー ,  熱特性 ,  薄膜 ,  散乱 ,  摩擦試験 ,  超伝導 ,  界面 ,  *潤滑膜 ,  高真空 ,  摩耗 ,  滑り面 ,  摩擦係数
準シソーラス用語： 超潤滑 ,  運転条件 ,  *低摩擦 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 熱的性質 ,  薄膜 ,  界面 ,  せん断加工 ,  摩耗とトライボロジー

分類 (1件)： 潤滑一般  (QB02010S)

タイトルに関連する用語 (4件)： MOS ,  固体 ,  潤滑膜 ,  低摩擦