文献

J-GLOBAL ID：201802241784054753   整理番号：18A0481430

化学溶液堆積によるナノ構造SnO_2薄膜の有機物を含まない合成【Powered by NICT】

Organic-free synthesis of nanostructured SnO₂ thin films by chemical solution deposition

著者 (5件)： Zarkov Aleksej (Faculty of Chemistry and Geosciences, Vilnius University, Naugarduko 24, LT-03225 Vilnius, Lithuania) ,  Stanulis Andrius (Institute of Chemistry, Center for Physical Sciences and Technology, Sauletekio av. 3, LT-10257 Vilnius, Lithuania) ,  Mikoliunaite Lina (Faculty of Chemistry and Geosciences, Vilnius University, Naugarduko 24, LT-03225 Vilnius, Lithuania) ,  Salak Andrei N. (Department of Materials and Ceramic Engineering/CICECO, University of Aveiro, 3810-193 Aveiro, Portugal) ,  Kareiva Aivaras (Faculty of Chemistry and Geosciences, Vilnius University, Naugarduko 24, LT-03225 Vilnius, Lithuania)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 649  ページ： 219-224  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 制御可能な粒径と気孔率を持つ単相多孔質SnO_2薄膜の調製のための新しい合成法を開発した。全プロセスは有機溶媒や錯化剤の添加を必要としなかった。薄膜は過酸化水素中のすず(II)しゅう酸塩を溶解することにより調製された水性溶液からのスピンコーティング法を用いて堆積した。X線回折解析は堆積した膜は単相とそれらの結晶サイズはアニーリング温度を300から800°Cに増加すると増加することを示した。も膜は微結晶の(110)優先配向を示すことが分かった。走査電子顕微鏡と原子間力顕微鏡は,膜の厚さと表面形態学的特徴の推定に利用した。10堆積サイクル後の膜の厚さは約160nmであった。膜の粗さはアニーリング温度の上昇と共に増加した。をUV-Vis分光測定から膜は可視スペクトル領域において透明度が高いことを示した。光学バンドギャップはアニーリング温度に依存して3.86~4.00eVの範囲にあると決定した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *薄膜 ,  光学ギャップ ,  優先配向 ,  空隙率 ,  走査電子顕微鏡 ,  単相 ,  微結晶 ,  水溶液 ,  原子間力顕微鏡 ,  スズ ,  スピンコーティング ,  *ナノ構造 ,  X線回折
準シソーラス用語： アニーリング温度 ,  錯化剤 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 薄膜 ,  二酸化すず ,  化学溶液堆積 ,  スピンコーティング

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学溶液堆積 ,  ナノ構造 ,  薄膜 ,  有機物