文献

J-GLOBAL ID：201802241987206713   整理番号：18A1997642

共晶混合物中の共存メタロフォルダマにより誘起されたSchiff塩基錯体の結晶構造の修飾に関する熱的および分光学的研究【JST・京大機械翻訳】

Thermal and spectroscopic studies on the modification of the crystalline structure of a Schiff-base complex induced by a co-existing metallofoldamer in eutectic mixtures

著者 (3件)： Achira Hiroto (Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan) ,  Yoshikawa Isao (Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan) ,  Houjou Hirohiko (Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan)
資料名： Thermochimica Acta  (Thermochimica Acta)
巻： 669  ページ： 52-59  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0350C  ISSN： 0040-6031  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単核Ni-salphen型(H_2-salphen=N,N′-ジサリチリデン-1,2-フェニレンジアミン)錯体を結晶状態で自発的螺旋折畳みを示す二核ビス(Ni-salphen)型錯体の量を変えて混合し,種々の温度での固体薄膜顕微鏡透過吸収分光法により混合物を調べた。熱分析は,2:1混合物が178°Cで共晶点を示し,一方,非合金化および二核錯体はそれぞれ212および228°Cで融解することを明らかにした。Ni-salphenの非晶質膜は約484nmに吸収バンドを示し,それはアニーリングにより特徴的微細構造バンドに変化した。一方,非晶質膜中のビス(Ni-salphen)単位は約510nmのバンドを示し,これは加熱により522nmに赤方偏移した。180°C以上での共晶混合物のアニーリングはビス(Ni-salphen)のそれに類似した赤方偏移プロファイルをもたらし,ビス(Ni-salphen)結晶ドメインがNi-salphen結晶ドメインの分子配列の変化を誘起することを意味した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *錯体 ,  焼なまし ,  *結晶構造 ,  吸収バンド ,  二核錯体 ,  合金化 ,  折畳み ,  吸光分光分析 ,  微細構造 ,  薄膜 ,  顕微鏡 ,  *共晶 ,  *結晶 ,  赤方偏移
準シソーラス用語： *フォルダマ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： メタロフォルダマ ,  多数決規則 ,  Sergeant-Soldiers原理 ,  顕微鏡吸収分光法 ,  低温結晶化 ,  ガラス形成材料

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  有機物質からなる多成分系の相平衡・状態図  (CB03016J) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U)

タイトルに関連する用語 (8件)： 共晶 ,  混合物 ,  共存 ,  誘起 ,  Schiff塩基錯体 ,  結晶構造 ,  修飾 ,  分光学的研究