室温でのエチレン酸化のためのAg/ZSM-5の合成,キャラクタリゼーション及び評価  水及び失活の影響の研究【JST・京大機械翻訳】

Yang Hongling; Yang Hongling; Ma Chunyan; Ma Chunyan; Li Yang; Wang Junhui; Zhang Xin; Zhang Xin; Wang Gang; Wang Gang; Qiao Nanli; Sun Yonggang; Sun Yonggang; Cheng Jie; Cheng Jie; Hao Zhengping; Hao Zhengping

文献

J-GLOBAL ID：201802242079349411 整理番号：18A1002960

室温でのエチレン酸化のためのAg/ZSM-5の合成,キャラクタリゼーション及び評価水及び失活の影響の研究【JST・京大機械翻訳】

Synthesis, characterization and evaluations of the Ag/ZSM-5 for ethylene oxidation at room temperature: Investigating the effect of water and deactivation

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資料名：
巻： 347 ページ： 808-818 発行年： 2018年
JST資料番号： D0723A ISSN： 1385-8947 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

種々のSiO_2/Al_2O_3比を有するAg/ZSM-5触媒を調製し,25°Cでのエチレン酸化について評価した。エチレンは25°Cで全てのAg/ZSM-5触媒により完全にCO2に酸化された。ZSM-5のSiO_2/Al_2O_3比は,触媒安定性に著しい影響を及ぼすことがわかった。38のSiO_2/Al_2O_3比を有するAg/ZSM-5は,他のAg/ZSM-5触媒と比較して,強化された触媒安定性を示した。Ag/ZSM-5(SiO_2/Al_2O_3=38)によるエチレンの転化率は,25°Cで405分間約100%のままであり,次に,エチレン転化率は次の450分で徐々にゼロに減少した。Broensted酸サイトがC_2H_4吸着サイトであり,H_2O蒸気によるC_2H_4吸着サイトの抑制がエチレン酸化の活性損失の重要な理由の1つであることを明らかにした。H_2O吸着-脱着速度論の結果は,SiO_2/Al_2O_3比38でのAg/ZSM-5上のH_2Oの遅い吸着と速い脱着特性がエチレン酸化に対する良好な触媒安定性に寄与することを示した。エチレン酸化のためのAg/ZSM-5触媒の触媒安定性に及ぼすBroensted酸サイトへのH2O吸着の負の影響の解明を考慮して,本研究は室温でのエチレン除去のための高性能触媒の設計に新しい洞察を提供する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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触媒操作

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室温でのエチレン酸化のためのAg/ZSM-5の合成,キャラクタリゼーション及び評価 水及び失活の影響の研究【JST・京大機械翻訳】

室温でのエチレン酸化のためのAg/ZSM-5の合成,キャラクタリゼーション及び評価水及び失活の影響の研究【JST・京大機械翻訳】