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J-GLOBAL ID:201802242542494305   整理番号:18A0766071

シンクロトロン放射光源の光学系における二重圧電鏡の応用【JST・京大機械翻訳】

Application of bimorph mirror in the optical system of synchrotron radiation light source
著者 (5件):
資料名:
巻: 10  号:ページ: 699-707  発行年: 2017年 
JST資料番号: C3067A  ISSN: 2095-1531  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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二重圧電鏡の適応光学技術について紹介し、同時にシンクロトロン放射光学領域における応用と更なる発展に対して展望的な思考と探索を提供した。現在発表されている関連文献資料に基づき、二重圧電鏡の適応光学技術をまとめ、この技術の工作メカニズムとキーパラメータを述べ、国際的に代表的なシンクロトロン放射機構における応用状況について述べた。最後に,主要技術と将来の開発傾向を指摘した。二重圧電鏡技術に及ぼす「接続点効果」の負の影響を効果的に解決するだけでなく,サブミクロンまたはナノスケールの焦点スポットを実現するためには,二重圧電鏡技術の更なる解決のための重要な問題がある。将来、二重圧電鏡の適応光学技術は中国の先進の第三世代シンクロトロン放射装置「上海光源(Shanghai Synchrotron Radiation Facility,SSRF)」の二期工事建設に応用できると期待される。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
著者キーワード (4件):
分類 (2件):
分類
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X線技術  ,  光デバイス一般 
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