文献

J-GLOBAL ID：201802242557801025   整理番号：18A0129761

緩く束縛された成長中心のイオンエッチングによるWC-Co超硬合金上の多結晶ダイヤモンド膜の密着性の改善【Powered by NICT】

Improvement to the adhesion of polycrystalline diamond films on WC-Co cemented carbides through ion etching of loosely bound growth centers

著者 (3件)： Linnik S.A. (High Technology Physics Research Institute, Tomsk Polytechnic University, Tomsk, Russia) ,  Gaydaychuk A.V. (High Technology Physics Research Institute, Tomsk Polytechnic University, Tomsk, Russia) ,  Okhotnikov V.V. (High Technology Physics Research Institute, Tomsk Polytechnic University, Tomsk, Russia)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 334  ページ： 227-232  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CVDダイヤモンド被覆炭化物切削工具は困難な材料の加工におけるその優れた耐久性のため加工応用のための最も有望な組合せの一つである。本研究では,WC-Co基板へのダイヤモンドコーティングの密着性,イオンエッチングを用いて基板表面から緩く結合したナノダイヤモンド成長中心(塗膜成長のための低い接着性を有する領域の原因)を除去する原理に基づくを増加させる新しい技術を研究した。その結果,密着被覆は40μmまでの柱状微細構造と厚さで得られた。も種々のイオンフラックス及び曝露時間の成長中心の密度変化の進展を検討した。イオンエッチング前処理なしの基板と前処理後のダイヤモンド皮膜剥離機構の違いについても検討した。自己剥離厚さのRockwell接着試験方法と測定によりコーティングの密着性の比較測定を行った。この方法の相対的な単純性,低いエネルギー消費と高い効率は,工業的および科学的応用のための魅力的である。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 前処理 ,  *付着 ,  *イオンエッチング ,  接着 ,  炭化物 ,  切削工具 ,  *ダイヤモンド ,  被覆 ,  *密着性 ,  層間剥離 ,  耐久性 ,  微細構造 ,  *超硬合金
準シソーラス用語： ダイヤモンド被覆 ,  *ダイヤモンド膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： CVDダイヤモンド ,  WC-Co切削工具 ,  接着 ,  表面前処理

分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 束縛 ,  イオンエッチング ,  WC-Co ,  超硬合金 ,  多結晶 ,  ダイヤモンド膜 ,  密着性