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J-GLOBAL ID：201802242677338943   整理番号：18A1689299

二次元六方格子における静水圧に対するフォトニック欠陥モードの依存性【JST・京大機械翻訳】

Dependence of photonic defect modes on hydrostatic pressure in a 2D hexagonal lattice

著者 (3件)： Segovia-Chaves Francis (Departamento de Fisica, Universidad Nacional de Colombia, AA 055051, Bogota, Colombia) ,  Segovia-Chaves Francis (Programa de Fisica, Universidad Surcolombiana, AA 385, Neiva, Colombia) ,  Vinck-Posada Herbert (Departamento de Fisica, Universidad Nacional de Colombia, AA 055051, Bogota, Colombia)
資料名： Physica E: Low-Dimensional Systems and Nanostructures  (Physica E: Low-Dimensional Systems and Nanostructures)
巻： 104  ページ： 49-57  発行年： 2018年 
JST資料番号： W1066A  ISSN： 1386-9477  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 平面波展開法を用いて,GaAs背景に埋め込まれた二次元六方格子から成る円筒状空気孔におけるフォトニックバンド構造に及ぼす静水圧の影響を調べた。静水圧が結晶の光学応答を変化させることを見出した。一方,圧力を増加させると,横方向電気(TE)と横方向磁気(TM)偏光の両方に対するフォトニックバンド構造は,半導体の誘電定数の減少により,高周波領域へのシフトを示した。スーパーセル技術を用いて,数値結果は,両方の偏光に対するフォトニックバンドギャップの位置と幅の両方が,円柱状空気孔を除去しながら変化しないままであることを示した。さらに,フォトニックバンドギャップ内の静水圧の増加とともにエネルギーが増加する欠陥モードを観測した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： フォトニック結晶 ,  *二次元 ,  半導体 ,  誘電率 ,  *静水圧 ,  磁気 ,  HF【周波数】 ,  フォトニックバンドギャップ ,  偏光 ,  ヒ化ガリウム ,  円柱 ,  円筒
準シソーラス用語： 光子バンド構造 ,  *欠陥モード ,  *六方格子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： フォトニック結晶 ,  静水圧 ,  欠陥モード ,  平面波展開法

分類 (1件)： 量子光学一般  (BD04010X)

タイトルに関連する用語 (4件)： 六方格子 ,  静水圧 ,  欠陥モード ,  依存性