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J-GLOBAL ID:201802243011078287   整理番号:18A0134745

噴霧熱分解法を用いたナノ構造NiO薄膜蒸着のレビュー【Powered by NICT】

Review of nanostructured NiO thin film deposition using the spray pyrolysis technique
著者 (3件):
資料名:
巻: 82  号: P3  ページ: 2900-2915  発行年: 2018年 
JST資料番号: W1084A  ISSN: 1364-0321  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,噴霧熱分解法(SPT)を用いたNiO膜の堆積をレビューした。物理的および化学的方法が,NiO膜を析出するために使用できる。本レビューでは,NiO薄膜のスプレー堆積のための異なる前駆体とその評価法を検討した。SPTの有用性は,この方法が簡単で低コスト,大量生産のための実行可能なから放射されている。金属および非金属材料堆積のための高い製品純度を与えた。塩化ニッケル,酢酸ニッケル,硝酸ニッケル,水酸化ニッケル,硫酸ニッケル,およびギ酸塩ニッケルはNiO薄膜蒸着のための主要な前駆体である。塩化ニッケルと酢酸ニッケルは最も使用されている及び高度に利用可能な前駆体である。酢酸ニッケルとは異なり,塩化ニッケル前駆体を蒸着装置(スプレーガン)を腐食する。これらの前駆体は,太陽電池パネル(セル)のための使用されている現在の材料と比較した相対的に安価である。SPT装置は堆積中の無視できる電力と使用後を消費する。種々の著者らは,物理的,化学的,光学的,構造的特性化およびナノ構造化NiO薄膜の性質を調べた。NiO膜はp型半導体であり,のような種々の応用に適した直接バンドギャップを有していた。膜は最適化のためのその同調性のためにオプトエレクトロニクス応用のための優れた材料として分類されている。広いバンドギャップは3.25 4~5.0eVの範囲であった。本レビューでは,発展途上国の電力問題を解くための太陽光ポテンシャルを調査する研究者に役立つであろう。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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