文献

J-GLOBAL ID：201802243914249866   整理番号：18A1515449

低フルエンスIRピコ秒レーザ照射によるガラス上のサブ250nmナノリップルを可能にする薄膜【JST・京大機械翻訳】

Thin film enabling sub-250 nm nano-ripples on glass by low fluence IR picosecond laser irradiation

著者 (4件)： Farid Nazar (National Centre for Laser Applications (NCLA), School of Physics, National University of Ireland, Galway, Ireland) ,  Nieto Daniel (National Centre for Laser Applications (NCLA), School of Physics, National University of Ireland, Galway, Ireland) ,  Nieto Daniel (Microoptics and GRIN Optics Group, Applied Physics Department, Faculty of Physics, University of Santiago de Compostela, Santiago de Compostela E15782, Spain) ,  O’Connor Gerard M. (National Centre for Laser Applications (NCLA), School of Physics, National University of Ireland, Galway, Ireland)
資料名： Optics & Laser Technology  (Optics & Laser Technology)
巻： 108  ページ： 26-31  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0245B  ISSN： 0030-3992  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルス幅10psのIR(λ=1032nm)ピコ秒レーザシステムを用いたガラスのアブレーション閾値よりも8倍低いフルエンスで,250nmまでの間隔をもつ良く整列した平行ナノリップルをガラス表面上に傾斜させた。レーザ走査の前にガラス表面を175nmのITO薄膜で最初に被覆した。ガラス表面上にITOなしで必要とされるよりも実質的に少ないフルエンスを用いてITO薄膜の選択的除去の間に,下層ガラス表面上にナノリップルが形成された。レーザ走査速度と繰返し速度はパルスの空間重なり(面積当たりのショット,SPA)を決定する。これは,達成されたリップルの対称性,間隔,および深さに大きく影響する。0.5ms-1,25SPAの走査速度で1.13から1.56J cm-2の範囲のフルエンス,400kHzのレーザ繰返しでの96%の重なりが,大面積ガラス表面上に0.25λ周期をもつナノリップルを発生させるための最適レーザパラメータであることが分かった。このプロセスは,透明導電性材料から成る構造に集積される格子の機会を提供する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *レーザ ,  パルス幅 ,  周期構造 ,  *薄膜 ,  酸化物 ,  *フルエンス ,  *ガラス ,  アブレーション ,  パルス
準シソーラス用語： 大面積 ,  走査速度 ,  繰返し速度 ,  レーザ走査 ,  *ナノリップル ,  *ピコ秒レーザ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ナノリップル ,  ガラス ,  周期構造 ,  LIPPS ,  薄膜 ,  インジウム-スズ-酸化物

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (7件)： フルエンス ,  Ir ,  ピコ秒レーザ ,  ガラス ,  サブ ,  ナノリップル ,  薄膜