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J-GLOBAL ID：201802245161264700   整理番号：18A1941563

FTOガラス上の電着酸化亜鉛の成長制御【JST・京大機械翻訳】

Control of the growth of electrodeposited zinc oxide on FTO glass

著者 (4件)： Ghannam Hajar (CNRS, Laboratoire Interfaces et Systemes Electrochimiques (LISE), Sorbonne Universite, 75005 Paris, France. [e-mail]) ,  Bazin Cyrille ,  Chahboun Adil ,  Turmine Mireille
資料名： CrystEngComm  (CrystEngComm)
巻： 20  号： 41  ページ： 6618-6628  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2462A  ISSN： 1466-8033  CODEN： CRECF4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,酸化亜鉛(ZnO)をフッ素ドープ酸化スズ(FTO)上に直接電着した。FTOの物理的および化学的不均一性は,重要で爆発的な結果に寄与した。実際に,二酸化スズ(SnO_2)のフッ素によるドーピングはそのルチル結晶格子を歪ませる。この歪は,粗い表面形態に寄与するネットワーク上の収縮機械的制約をもたらす。さらに,FTO表面のナノ粗さはZnOナノロッドのエピタキシャル成長を妨げる。しかしながら,FTO表面の化学的不均一性と組み合わせたこの粗さは,好ましい成長サイトをもたらす。これは,ZnO核を引き付けるより強い電気陰性度を持つSnO_2ネットワーク中のフッ素原子の存在によって説明できる。同じ電気陰性スポット周辺の多くの核の蓄積は,ナノ花状構造または傾斜ナノロッドの発達に寄与する。このような場合,ZnOの非極性ファセットは露出し,電着膜は高度に疎水性である。FTO上へのZnOの成長を,電着の時間,温度,Zn2+前駆体の濃度,およびKClの濃度の4つの主要なパラメータを変化させて研究した。ZnO電着物の形状,サイズ,成長機構,および密度に及ぼすそれらのパラメータの影響を議論した。したがって,Zn2+前駆体の濃度が0.1から5mMに増加すると,ナノロッドのサイズは減少するが,これらのナノ構造の密度は増加し,ナノフラワーにおけるそれらの組織化をもたらす。しかしながら,0.5から4MへのKCl濃度の増加は,六方晶ナノロッドアレイからナノ鉛筆アレイへのZnOナノ構造形状の変化を引き起こし,また,直径が90から200nmまで変化するZnOナノ構造サイズの著しい増加を伴う密度の著しい減少を引き起こす。さらに,電着の時間はZnOナノロッドの高さに影響する重要なパラメータである。最後に,ZnOの良好な結晶化が高温(約80°C)で観察された。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： フッ素 ,  *酸化亜鉛 ,  ネットワーク ,  *電着 ,  ルチル ,  結晶化 ,  前駆体 ,  六方晶系 ,  ファセット ,  ナノロッド ,  疎水性 ,  ドーピング
準シソーラス用語： ナノロッドアレイ ,  ナノフラワー ,  表面形態 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： FTOガラス ,  電着 ,  酸化亜鉛 ,  成長制御