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J-GLOBAL ID：201802245372156802   整理番号：18A1934456

スーパーキャパシタ応用のための低コストCO_2レーザによる酸化グラフェンの高速で制御可能な還元【JST・京大機械翻訳】

Fast and controllable reduction of graphene oxide by low-cost CO₂ laser for supercapacitor application

著者 (10件)： Bhattacharjya Dhrubajyoti (Department of Nanomechanics, Korea Institute of Machinery & Materials (KIMM), 156 Gajungbuk-ro, Yuseong-gu, Daejeon 34103, Republic of Korea) ,  Bhattacharjya Dhrubajyoti (CIC Energigune, Parque Tecnologico de Alava, Albert Einstein 48, ED. CIC, 01510 Minano, Spain) ,  Kim Chang-Hyeon (Department of Nanomechanics, Korea Institute of Machinery & Materials (KIMM), 156 Gajungbuk-ro, Yuseong-gu, Daejeon 34103, Republic of Korea) ,  Kim Chang-Hyeon (Nano Mechatronics, University of Science and Technology (UST), 217 Gajeong-ro, Yuseong-gu, Daejeon 34113, Republic of Korea) ,  Kim Jae-Hyun (Department of Nanomechanics, Korea Institute of Machinery & Materials (KIMM), 156 Gajungbuk-ro, Yuseong-gu, Daejeon 34103, Republic of Korea) ,  Kim Jae-Hyun (Nano Mechatronics, University of Science and Technology (UST), 217 Gajeong-ro, Yuseong-gu, Daejeon 34113, Republic of Korea) ,  You In-Kyu (Convergence Components and Materials Research Laboratory, Electronics and Telecommunications Research Institute (ETRI), 218 Gajeongno, Yuseong-gu, Daejeon 34129, Republic of Korea) ,  In Jung Bin (School of Mechanical Engineering, Chung-Ang University, 84 Heukseok-ro, Dongjak-gu, Seoul 156-756, Republic of Korea) ,  Lee Seung-Mo (Department of Nanomechanics, Korea Institute of Machinery & Materials (KIMM), 156 Gajungbuk-ro, Yuseong-gu, Daejeon 34103, Republic of Korea) ,  Lee Seung-Mo (Nano Mechatronics, University of Science and Technology (UST), 217 Gajeong-ro, Yuseong-gu, Daejeon 34113, Republic of Korea)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 462  ページ： 353-361  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェン酸化物の直接還元は,グラフェンの大規模合成のための経済的に実行可能なルートと見なされてきた。しかしながら,現在知られている方法は,低い還元効率または多段階およびエネルギー集約的な還元プロセスを含む。ここでは,コンパクトで低コストのCO_2レーザ熱分解を用いて,高品質多層グラフェン膜を作製するための,非常に高速で,単一のステップと,非常に効率的な還元技術を実証した。近および中赤外領域におけるグラフェン酸化物の本質的に高い吸収率のおかげで,CO_2レーザの照射は,それに瞬間的で強い局在化加熱を発生させ,その結果,グラフェン酸化物層から酸素官能基を離れてバーストする。合成した多層グラフェン膜の還元の程度は,レーザ強度,走査速度およびシフトピッチのようなレーザ加工パラメータの変化により完全に制御できる。この方法の価値を証明するために,グラフェン膜を対称スーパーキャパシタセルのための無結合電極および自立電極として用いた。電気化学的性能データは,比キャパシタンスとサイクル安定性が還元効率と対照的な関係を持つことを示した。このCO2レーザに基づく還元法は多層グラフェンとその複合材料の高出力を保証できると信じる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *高速度 ,  対称性 ,  多層 ,  複合材料 ,  *グラフェン ,  酸素 ,  *還元 ,  静電容量 ,  *レーザ ,  熱分解
準シソーラス用語： 多層グラフェン ,  走査速度 ,  官能基 ,  *酸化グラフェン ,  *スーパーキャパシタ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 酸化グラフェン ,  多層グラフェン ,  熱分解 ,  CO2レーザ ,  スーパーキャパシタ

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： スーパーキャパシタ ,  応用 ,  レーザ ,  酸化グラフェン ,  還元