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J-GLOBAL ID：201802245713406467   整理番号：18A2229468

電着と脱合金によるAu-Agナノ多孔性構造の制御【JST・京大機械翻訳】

Control for Au-Ag Nanoporous Structure by Electrodeposition and Dealloying

著者 (4件)： Saito Mikiko (Institute for Nanoscience and Nanotechonology, Waseda University, Shinjuku, Tokyo, 162-0041, Japan) ,  Mizuno Jun (Institute for Nanoscience and Nanotechonology, Waseda University, Shinjuku, Tokyo, 162-0041, Japan) ,  Koga Shunichi (Department of Sustainable Energy and Environmental Engineering, Osaka University, Suita, Osaka, 565-0871, Japan) ,  Nishikawa Hiroshi (Joining and Welding Research Institute, Osaka University, Ibaraki, Osaka, 567-0047, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： ESTC  ページ： 1-5  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電着と脱合金化により形成されたAu-Agナノ多孔質構造の組成,形態,および溶解挙動を調べた。膜の形成は浴組成とアニーリング温度を変えて行った。Ag量は脱合金化後に70wt%から45~50wt%に減少した。グロー放電発光分光計(GDOES)による分析から見られるように,Agの量だけでなく,Auの量も脱合金化後に減少し,高濃度Ag層が表面で発生した。Agが溶解すると,アンダーポテンシャル堆積(UPD)が導入され,続いて高濃度のAgが生成する。陽極分極測定から,1.5V下の試料の陽極電流密度は1.0V下の試料のそれらよりも大きく,多くのナノ細孔の生成をもたらした。脱合金化は3つのプロセスを含むことが確認された:全膜溶解(Au溶解を含む),結晶粒界での欠陥溶解,およびAg選択溶解。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *金 ,  陽分極 ,  溶解 ,  グロー放電 ,  結晶粒界 ,  発光分光法 ,  電流密度 ,  *電着 ,  *銀 ,  アノード
準シソーラス用語： ナノ細孔 ,  高濃度 ,  アニーリング温度 ,  ナノポーラス ,  *脱合金 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電着 ,  脱合金 ,  Au ,  Ag ,  ナノ多孔性