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J-GLOBAL ID：201802245889641425   整理番号：18A1900152

事前平坦化プロセスによる有機発光ダイオードのための薄膜カプセル封じにおける障壁性能の改善【JST・京大機械翻訳】

Improvement of barrier performance in thin film encapsulation for organic light-emitting diodes by a prior planarization process

著者 (5件)： Qin Cunping (School of Mechatronic Engineering and Automation, Shanghai University, Shanghai, China) ,  Yang Jun (School of Material Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai, China) ,  Xu Tao (Key Laboratory of Advanced Display and System Applications of Ministry of Education, Shanghai University, Shanghai, China) ,  Ding Xingwei (School of Mechatronic Engineering and Automation, Shanghai University, Shanghai, China) ,  Zhang Jianhua (School of Mechatronic Engineering and Automation, Shanghai University, Shanghai, China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： ICEPT  ページ： 780-784  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機/無機ハイブリッド障壁を作製し,有機発光ダイオードをカプセル化した。無機層としてのAl_2O_3を原子層堆積(ALD)によって蒸着し,有機層としてのポリジメトキシシラン(PDMS)をスピンコーティングプロセスによって調製した。以前の平坦化プロセスによる最適化カプセル化構造は,60°CでのハイブリッドPDMS/Al_2O_3/PDMS膜の4.95~1gm-2日~1~2日-1,及び相対湿度90%,及び長い輝度減衰時間を有する良好なバリア性能を有することが分かった。これらの改善は,前のスピンコーティングプロセスによる粒子の被覆率を含むカプセル化基盤の表面平坦化に起因し,プロセス中の無機膜の欠陥を減少させ,最も外側のポリマの疎水性表面が水蒸気の吸着を低下させる。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  スピンコーティング ,  *薄膜 ,  輝度 ,  減衰時間 ,  被覆率 ,  相対湿度 ,  疎水性 ,  重合体 ,  無機分離膜
準シソーラス用語： 有機層 ,  *有機EL素子 ,  *平坦化 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 音声処理  (JE05000E) ,  符号理論  (ND02030R) ,  専用演算制御装置  (JC04030Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： 平坦化 ,  プロセス ,  有機発光ダイオード ,  薄膜 ,  カプセル封じ ,  障壁