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J-GLOBAL ID：201802246045232445   整理番号：18A1763215

X線・中性子線を用いたABA型トリブロック共重合体エラストマー薄膜の深さ分解構造解析

著者 (3件)： 三浦永理 (名古屋工大 大学院) ,  山本勝宏 (名古屋工大 大学院) ,  山本勝宏 (名古屋工大)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 67  号： 2  ページ： ROMBUNNO.1Pa025  発行年： 2018年08月29日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ポリメタクリル酸メチル ,  ポリアクリル酸ブチル ,  *トリブロック共重合体 ,  *ゴム ,  *高分子薄膜 ,  *小角X線散乱 ,  分解能 ,  *中性子反射 ,  反射率 ,  構造解析 ,  原子移動ラジカル重合 ,  回転成形 ,  *ポリスチレン ,  *被覆層 ,  重水素化 ,  試料 ,  層状組織
準シソーラス用語： *すれすれ入射小角X線散乱 ,  深さ分解能 ,  層状構造 ,  中性子反射率

分類 (5件)： X線回折法  (BK01020I) ,  中性子回折法  (BK01060A) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  ゴム  (YH07020M) ,  アクリル樹脂  (YH07110K)

タイトルに関連する用語 (8件)： X線 ,  中性子線 ,  ABA型 ,  トリブロック共重合体 ,  エラストマー ,  薄膜 ,  分解 ,  構造解析