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J-GLOBAL ID：201802247622061107   整理番号：18A1356574

温和な条件下でのSiO_2担持ロジウムナノ粒子によるフェノールのシクロヘキサノンへの選択的水素化【JST・京大機械翻訳】

Selective hydrogenation of phenol to cyclohexanone by SiO₂-supported rhodium nanoparticles under mild conditions

著者 (7件)： Zhang Hongwei (Department of Chemistry, National University of Singapore, 3 Science Drive 3, Singapore 117543, Singapore) ,  Han Aijuan (Department of Chemistry, National University of Singapore, 3 Science Drive 3, Singapore 117543, Singapore) ,  Okumura Kazu (Department of Applied Chemistry, School of Advanced Engineering, Kogakuin University, 2665-1 Nakano-machi Hachioji-city, 192-0015 Tokyo, Japan) ,  Zhong Lixiang (Center for Programmable Materials, School of Materials Science and Engineering, Nanyang Technological University, Singapore 639798, Singapore) ,  Li Shuzhou (Center for Programmable Materials, School of Materials Science and Engineering, Nanyang Technological University, Singapore 639798, Singapore) ,  Jaenicke Stephan (Department of Chemistry, National University of Singapore, 3 Science Drive 3, Singapore 117543, Singapore) ,  Chuah Gaik-Khuan (Department of Chemistry, National University of Singapore, 3 Science Drive 3, Singapore 117543, Singapore)
資料名： Journal of Catalysis  (Journal of Catalysis)
巻： 364  ページ： 354-365  発行年： 2018年 
JST資料番号： H0480A  ISSN： 0021-9517  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 温和な条件下でのフェノールのシクロヘキサノンへの選択的水素化のためのシリカ担持ロジウム触媒を開発した。触媒上のRh濃度が0.5から15wt%に増加すると,転化率(フェノール/Rhモル比100/1)は低下したが,シクロヘキサノンへの初期選択性は増加した。シクロヘキサノールへの直接水素化は,シクロヘキサノンへの部分水素化と並行して起こった。選択性とRh分散の間の負の相関は,直接水素化が低配位サイトで起こるが,フェノールのフェノキシへの解離とそれに続くシクロヘキサノンへの水素化がより高い配位テラスサイトで起こることを示唆する。DFT計算は,O-H結合開裂に対する活性化障壁が,小さな粒子上よりもRh(111)平面上に吸着したフェノールに対して低いことを明らかにした。(3-メルカプトプロピル)トリメトキシシランによるグラフト化により低配位端とステップサイトをブロックすることにより,シクロヘキサノン選択性は100%転化率で82から93%に改善された。触媒は室温と1atmのH_2圧力で活性であり,その場還元により容易に活性化できた。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ロジウム ,  触媒 ,  *水素化 ,  二酸化ケイ素 ,  開裂反応 ,  転化率 ,  密度汎関数法 ,  ロジウム触媒 ,  モル比 ,  *ナノ粒子 ,  脂環式アルコール ,  脂環式ケトン ,  フェノール類
準シソーラス用語： 活性化障壁 ,  *選択的水素化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ロジウム ,  フェノールの水素化 ,  シクロヘキサノン ,  粒子サイズ ,  部位特異性 ,  チオール修飾

分類 (1件)： 酸化,還元  (CF02060T)

物質索引 (3件)： シクロヘキサノール ,  シクロヘキサノン ,  フェノール

タイトルに関連する用語 (6件)： 担持 ,  ロジウム ,  ナノ粒子 ,  フェノール ,  シクロヘキサノン ,  選択的水素化